苏大维格技术创新进入无人区光场3D显示.docxVIP

实用标准文档 引言——苏大维格技术创新进入“无人区” 中国科技创新一直以来都是“有人区”复制太多，成本竞争激烈，而“无人区” 真正的开拓创新太少。 苏大维格上市以来依托完全自主搭建的微纳制造平台，持续不断的通过技术创新进行“无人区” ，光学防伪技术用于身份证，打破我国对国外技术依赖，在全球范围内率先实现 Metalmesh 导电膜量产， 创造性的开发了纳米指向性背光膜。 公司的微纳制造技术是指精度在微米（ 1um=10-3 毫米）、纳米（ 1nm=10-3um）级的超细微加工极端制造技术。 微纳制造是超材料研发生产的核心技术， 超材料具备天然材料所不具备的特殊性质， 而且这些性质主要来自人工设计的 微纳结构。 图：微纳结构应用领域 苏大维格的微纳制造创新平台，占据了全球下一代材料加工、制造创 新的制高点，该技术应用范畴众多， 平台将产生大量的创新应用、 创新产 文案大全 实用标准文档 品。公司构建的多元技术壁垒国内其他企业难以跨越， 其核心设备自主研发，不受制于国外的装备及零部件， 并且技术与国际先进企业处于同一水平。经过近几年的开拓创新， 公司目已经在包装材料、 公共防伪、导光膜、导电膜等四个领域形成了完整的产业化布局， 并且在特种功能膜材料 （热烫印膜）、LED纳米图形化衬底、 OLED掩膜版、裸眼 3D 等领域拥储备了完善的技术。公司现凭借 NanoCrystal200纳米光