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超光滑表面加工技术 学生姓名:魏宇峰 专业:无机非金属材料工程 指导教师:张希艳 主要内容 简述 超光滑表面加工技术 超光滑表面检测技术 简述 近年来,空间光学、X射线学、紫外光学 以及磁记录、光学记录、超大规模集成电 路等领域的发展,对上述光学系统的光学 元件提出了极精确面型和超光滑表面的加 工要求,其表面粗糙度在纳米级。 通常把粗糙度为纳米级的表面称为 超光滑表面。超光滑表面加工技术, 即超光滑抛光,相当于原子、分子 水平上的加工。 简述 超光滑光学元件可用于的高科技领域 ●软X射线光学系统 ●空间光学(天文望远镜) 强激光系统(谐振腔反射镜面) 集成电路基板 大容量光盘 磁头加工 简述 超光滑表面抛光机理 1.机械磨削去除材料 2物理碰撞方法去除材料原子 3化学方法去除工件表面原子 实际上,超光滑表面抛光过程,材料去除并不 只是其中的一种方式,多数情况下是三种去除 方式的共同作用,只是某一种方式表现得更为 明显历已 2超光滑表面加工技术 目前,超光滑光学元件常用的材料有玻璃、晶体、陶瓷及某些金属, 如熔石英、微晶玻璃、蓝宝石、铝合金、无氧铜、单晶硅等。所以获得 超光滑表面的加工技术有很多 1浴法抛光 2浮法抛光 3聚四氟乙烯抛光 4离子束抛光 5等离子体辅助抛光 6磨粒弹性溅射抛光 7磁流变抛光 1.浴法抛光 浴法抛光是美国在20世纪60年代为发展 远紫外光学而研究的一种超光滑加工方 法。此法在熔石英上获得了粗糙度为 03nm的超光滑表面。 1.浴法抛光 浴法抛光示意图 1.液槽 2抛光液 3搅拌器 ±== AAAAAAAAA 4抛光盘 5.工件 1.浴法抛光 开槽机(附件) HPMS平面环型研磨抛光机(水中抛) 2浮法抛光 FP是日本大阪大学南波教授为加工抛光磁头 材料在1977年提出的。该方法已经获得表面 粗糙度Ra01nm超光滑表面,是目前超光 滑表面加工技术中,工件表面粗糙度最小的 方法 浮法抛光机的机械构造类似于定摆抛光机。镜盘在磨盘上;电 动机驱动主轴使磨盘旋转镜盘和工件因为磨盘的作用而被动 地绕自身工作轴旋转;但由于镜盘工件轴是固定的,工件不在 磨盘上往复摆动。磨盘与工件均浸于抛光液中。磨盘材料不 是通常的沥青或聚氨脂或毛毡之类,而是金属锡,纯度在 9999%以上,锡盘厚度约20mm。锡盘是这样制造的:先用钢 刀在锡盘上车出2mm宽的螺线或同心圆;再用钻石车刀在盘 面车出更精细的螺线进给速度约03mm/rev。