多晶硅生产工艺学(范文).pdfVIP

第 1 页多晶硅生产工艺学 多晶硅生产工艺学 第 2 页多晶硅生产工艺学 绪论 一、硅材料的发展概况 半导体材料是电子技术的基础，早在十九世纪末，人们就发 现了半导体材料，而真正实用还是从二十世纪四十年代开始的， 五十年代以后锗为主，由于锗晶体管大量生产、应用，促进了半 导体工业的出现，到了六十年代，硅成为主要应用的半导体材料， 到七十年代随着激光、发光、微波、红外技术的发展，一些化合 物半导体和混晶半导体材料：如砷化镓、硫化镉、碳化硅、镓铝 砷的应用有所发展。一些非晶态半导休和有机半导休材料 （如萘、 蒽、以及金属衍生物等）在一定范围内也有其半导休特性，也开 始得到了应用。 半导休材料硅的生产历史是比较年青的，约 30 年。美国是从 1949～1951 年从事半导体硅的制取研究和生产的。几年后其产量 就翻了几翻，日本、西德、捷克斯洛伐克，丹麦等国家的生产量 也相当可观的。 从多晶硅产量来看，就 79 年来说，美国产量 1620～1670 吨。 日本420～440 吨。西德 700～800 吨。预计到 85 年美国的产量将 达到 2700 吨、日本 1040 吨、西德瓦克化学电子有限公司的产量 将达到 3000 吨。 我国多晶硅生产比较分散，真正生产由 58 年有色金属研究院 开始研究，65 年投入生产。从产量来说是由少到多，到七七年产 第 3 页多晶硅生产工艺学 量仅达 70～80 吨，预计到 85 年达到 300 吨左右。 二、 硅的应用 半导体材料之所以被广泛利用的原因是：耐高压、硅器件体 积小，效率高，寿命长，及可靠性好等优点，为此硅材料越来越 多地应用在半导体器件上。硅的用途： 1、作电子整流器和可控硅整流器，用于电气铁道机床，电解食 盐，有色金属电解、各种机床的控制部分、汽车等整流设备上， 用以代替直流发电机组，水银整流器等设备。 2 、硅二极管，用于电气测定仪器，电子计算机装置，微波通讯装 置等。 3、晶体管及集成电路，用于各种无线电装置，自动电话交换台， 自动控制系统，电视摄相机的接收机，计测仪器髟来代替真空管， 在各种无线电设备作为放大器和振荡器。 4 、太阳能电池，以单晶硅做成的太阳能电池，可以直接将太阳能 转变为电能。 三、 提高多晶硅质量的措施和途径： 为了满足器件的要求，硅材料的质量好坏，直接关系到晶体 管的合格率与电学性能，随着大规模集成电路和 MOS 集成电路的 发展而获得电路的高可靠性，适应性。因此对半导体材料硅的要 求越来越高。 1、提高多晶硅产品质量的措施： 在生产过程中，主要矛盾是如何稳定产品的质量问题，搞好 第 4 页多晶硅生产工艺学 工艺卫生是一项最重要的操作技术，在生产实践中要树立“超纯” 观念，养成严格的工艺卫生操作习惯，注意操作者，操作环境及 设备材料等方面夺产品的污染和影响，操作环境最好有洁净室。 洁净室一般分为三级，它是以 0 。5U 以上和5U 以下的粒子在单 位容积中的个数来分级的。 a 、100 级，平均每单位体积（立方英尺）（1 英尺=30 。48 ㎝）中以0 。5U 以上大小粒子，不超过 100 个，5U 以上的粒子全 部没有。 b 、10000 级：平均单位体积（立方英尺）中，0 。5U 以上的 大小粒子个数不超过 10000 个，5U 以上的粒子在65 个以小。 c 、100000 级：平均单位体积中 0 。5U 以上的大小粒子不超 过 100000 个，5U 以上的粒子在700 个以小。 2 、提高原料纯度： 决定产品质量的因素很多，其中原料，中间化合物如硅铁、 液氯、氢气、三氯氢硅等的杂质的存在，对产品的质量好坏是起 决定性的因素。（原料纯度越高，在制备过程中尽量减少沾污，就 能制得高质量的多品硅。）因此，在制备过程中尽量减少杂质的沾 污，提高原料有纯度。 3、强化精馏效果： 在工业生产中，原料的提纯几乎成为提高产品纯度的唯一手 段。精馏法是化学提纯领域的重点，如何提高精馏效果和改进精 馏设备，乃是精馏提纯的中心课题，近年来发展了加压精馏，固