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第6章III-V族化合物半导体
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
第六章III-V族化合物半导体
IIIA元素:B 、Al 、Ga、In
VA元素:N 、P、As 、Sb
组合形成的化合物15种 (BSb除外)
目前得到实用III-V族化合物半导体
GaN GaP GaAs GaSb
InP InAs InSb
原子序数之和:由小→大
材料熔点:由高→低
带隙宽度:由大→小
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
元素 N P As Sb
B BN BP BAs
直接6.4eV 间接2.0eV 间接1.5eV
制备困难,需高温高压
Al AlN AlP AlAs AlSb
直接6.2eV 间接2.45eV 间接2.12eV 间接1.6eV
不稳定 AlN蓝光AlSb 太阳能电池材料
Ga GaN GaP GaAs GaSb
直接3.4eV 间接2.26eV 直接1.43eV 直接0.73eV
GaN蓝光器件GaP红光、绿光发光器件
GaAs光电材料GaSb类似Ge
In InN InP InAs InSb
直接0.7eV 直接1.35eV 直接0.45eV 直接0.18eV
电子迁移率高霍尔器件
InN制备困难 InP 耿氏器件及衬底材料
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
与Si相比,III-V族二元化合物半导体的独特性质
1. 带隙较大,大部分室温时>1.1eV ,因而所制造的
器件耐受较大功率,工作温度更高
2. 大都为直接跃迁型能带,因而其光电转换效率高,
适合制作光电器件,如LED 、LD 、太阳电池等。
GaP虽为间接带隙,但Eg 较大(2.25eV) ,掺入等电
子杂质所形成的束缚激子发光仍可得到较高的发光
效率。是红(Zn-O 、Cd-O) 、黄(Bi) 、绿(N)光LED
的主要材料之一
3. 电子迁移率高,很适合制备高频、高速器件
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
第六章III-V族化合物半导体
6-1、III-V族化合物半导体的特性
6-2 、GaAs单晶的生长方法
6-3 、GaAs单晶中杂质的控制
6-4 、GaAs单晶的完整性
6-5、其它III-V族化合物的制备
吉林大学电子科学与工程学院 半导体材料
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