薄膜光学技术-4-1.pptVIP

2021/3/23 * 光电极值法监控的特点 只能用于监控光学厚度,不能用来监控几何厚度; 只能用于监控四分之一波长厚度,对于监控任意厚度无能为力。 2021/3/23 * 4.3.3、任意膜厚的单波长监控 ⑴. 对所需的膜层厚度计算出对应的极值波长,用极值法监控。（变波长监控） ⑵. 对于折射率稳定易重复的膜层,可以监控非极值波长的T或R值。(定值法监控) (3). 曲线比拟法 对于理论厚度nd, 对应理论值TA0和TA1,在实际制作时,得到TB0,根据此式计算出TB1,到达TB1时停镀, 即得到厚度nd。 2021/3/23 * 4.3.4 石英晶振法 —利用石英晶体的压电效应,测量石英晶体振动频率或周期随石英晶片厚度的变化量,达到测量沉积在石英晶片上的膜层厚度的目的。 2021/3/23 * 依据石英晶片振动频率 f 与晶片厚度dq成反比的原理:f=N/dq N—由石英晶片决定的常数 若在此晶片一个表面镀上膜层厚度为 Δdf ,假设对应的等效石英晶片厚度为Δdq 则:利用关系式 其中: A—晶片被镀面积 得: 1. 频移法 等效石英晶片厚度 2021/3/23 * 而由 微分得: ∴ 膜层厚度增量引起石英晶片振动频率的变化量为: 频移法存在的问题: ①忽略了有膜晶片与无膜晶片振动模式的差异; ②忽略了有膜晶片连续或继续使用时振动基频f的变化。 结果导致了频移法在原理上就是近似的。 2021/3/23 * 2. 周期法 若用 和 分别表示石英晶片的振动基频和初始厚度 则:由 可得 　 将 代入上式,并整理可得: 式中: 是无膜石英晶片的振动周期 是有膜石英晶片的振动周期 据此测得膜层厚度,克服了频移法存在的第二个问题。 2021/3/23 * 3. 声阻抗法 若将镀膜后石英晶片振动模式的改变也考虑在膜层厚度的计算公式中,则可得出更加精确的测厚公式: 式中: 分别是膜层和石英晶片的声阻抗值。 2021/3/23 * [晶控与光控比较] 光控: ①直接控制光学膜层的目标特性参数T或 R; ②不同膜层的厚度误差有相互补偿作用; ③对膜层厚度的控制精度较低。 晶控: ①控制精度高（1埃）,易实现自动控制; ②可直接监控成膜速率,便于工艺稳定重复和闭环控制; ③可控制任意厚度; ④ 温度对石英晶片的 f 影响大,需要恒温措施 (增加水冷却装置)。 控制电子枪电子束流的大小 2021/3/23 * 4.3.5宽光谱膜厚监控 控制膜层厚度的目的是在预定的波段获得所需要的光谱特性。因此,监控膜层厚度的方法,实际上是在间接地监控膜层光谱特性,是不得已而为之的的权宜之计。 如果能在膜层镀制过程中就直接在实际使用的波段监控膜层光谱特性,那才真正实现了最终目标函数的控制。 2021/3/23 * 具体方案:  ①在镀膜机上设置一台快速扫描分光光度计（全光谱采样时间小于100mS,波长分辨率优于2nm,波长重复性优于1nm,T或R测量精度1%）,实现膜层 T —λ或 R—λ曲线的适时测量。  ②设定合理的目标评价函数:宽波段监控的目标（停镀点）,是由适时测量光谱函数（曲线）与理论设计的目标光谱函数（曲线）之差确定的目标评价函数的极小值。 ③适时测量 n、d值,修正膜系设计,确保达到设计要求:通过已镀膜层的实际测量光谱曲线,拟算出膜层的n和d,并据此n、d,修正原设计膜系中未镀各层的参数,使后续膜层镀完后的整个膜系的光谱曲线能达到原设计要求。 2021/3/23 * Wide band monitoring 原理:透射曲线理论值和实测值之间所包围的面积最小,即停止蒸发 2021/3/23 * 4.4 膜层厚度均匀性 4.4.1 影响膜层厚度均匀性的因素: 1. 蒸发源发射特性 ⑴.蒸发源结构 点源,面源,螺旋丝等不同结构的蒸发源,其发射分布特性不同。 m—蒸发源向所有方向蒸发的膜料的总质量; ρ—膜料的密度; r—蒸发源