真空镀膜与光学镀膜对比.pdfVIP

真空镀膜 主要利用辉光放电 (glow discharge)将氩气 (Ar) 离子撞击靶材 (target)表面 , 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。 溅镀薄膜的性质、 均匀度都比蒸镀薄膜来的 好 ,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运 动以加速靶材周围的氩气离子化 , 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加 , 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀 ,而不导电的陶磁材料则使用 RF 交流溅镀 , 基本的原理是在真空中利用辉光放电 (glow discharge)将氩气 (Ar) 离子撞击靶材 (target)表面， 电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的 负电极表面， 这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。 一般来说， 利用溅镀 制程进行薄膜披覆有几项特点： (1) 金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 (2)再适当的设 定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。 (3)利用放电气氛中加入氧或其它的 活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。 (4)靶材输入电流及溅射时间 可以控制，容易得到高精度的膜厚。 (5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。 (6)溅射粒 子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。 (7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的 10 倍以上，且由于溅射粒子带有高能量，在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜， 同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。 (8)薄膜形成初期成核密度高，可生 产 10nm 以下的极薄连续膜。 (9)靶材的寿命长，可长时间自动化连续生产。 (10)靶材可制作 成各种形状，配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。 光学镀膜 一、 耐磨损膜（硬膜） 无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片， 在日常的使用中， 由于与灰尘或砂砾 （氧化硅） 的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比， 有机材料制成的硬性度比较低， 更易产生划痕。 通过显微镜， 我们可以观察到镜片表面的划 痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕， 浅而细小， 戴镜者不容易察觉；另一种是由较 大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。 （1）技术特征 1）第一代抗磨损膜技术 抗磨损膜始于 20 世纪 70 年代初， 当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高， 而有机镜片 则太软所以容易磨损。 因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面， 形成一层非常硬的 抗磨损膜， 但由于其热胀系数与片基材料的不匹配， 很容易脱膜和膜层脆裂， 因此抗磨损效 果不理想。 2 ）第二代抗磨损膜技术 20 世纪 80 年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料 具有“硬度 /形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较 低，但变形较大。 第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬 度高且不易脆裂的材料。 3）第三代抗磨损膜技术 第三代的抗磨损膜技术是 20 世纪 90 年代以后发展起来的， 主要是为了解决有机镜片镀上减 反射膜层后的耐磨性问题。 由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别， 新 的理论认为在两者之间需要有一层抗磨损膜层， 使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用，