常用羟基的保护方法.pdfVIP

羟基的保护 保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR′) 或酯类 (ROCOR′) ，前者对氧化剂或还原剂 都有相当的稳定性。 1. 形成甲醚类 ROCH3 可以用碱脱去醇 ROH质子，再与合成子 ＋CH3作用，如使用 试剂 NaH/ Me2SO4。也可 先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应，如 使用 Ag2O / MeI ；但对三级醇不宜使用这一方法。 醇类也可 与重氮甲烷 CH2N2，在 Lewis 酸（如 BF3·Et2O）催化下形成甲醚 . 脱去甲基保护基， 回复到醇类， 通常使用 Lewis 酸 ，如 BBr3及 Me3SiI ，也就是引用硬 软酸碱原理（ hard-soft acids and bases principle ）， 使氧原子与硼或硅原子结合（较硬 的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将甲基（较软的共轭酸）除去。 2. 形成叔丁基醚类 ROC （CH3）3 醇与异丁烯在 Lewis 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基（ bulky group ），脱去 时需用酸处理 3. 形成苄醚 ROCH2Ph： 制备时， 使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide) 反应， 通常 以加氢反应或锂 金属 还原， 使苄基脱除 ，并回复到醇类。 4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3) 制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4- 二甲胺基吡啶（ 4-dimethyl aminopyridine, DMAP ）为催化剂。 5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3 制备时，使用 甲氧基氯甲烷与醇类作用 ，并以三级胺吸收生成的 HCl。甲氧基甲醚在 碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性， 但此 保护基团可用强酸或 Lewis 酸在激烈条件 下脱去 。 7. 形成四氢吡喃 ROTHP 制备时，使用 二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用 。欲回收恢复到醇类时，则在 酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团 。有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是 增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子） ，使得 NMR谱的解析较复杂。 8. 形成叔丁基二甲硅醚 ROSiMe2 （t-Bu ） 制备时， 用叔丁基二甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用 ，此保护基比三甲基硅基稳定， 常运用在有机合成反应中，一般是 F- 离子脱去。 9. 形成乙酸酯类 ROCOCH3 脱去乙酸酯保护基可使用皂化反应水解。乙酯可与大多数的还原剂作用，在强碱中也 不稳定，因此很少用作有效的保护基团。 但此反应的产率极高，操作也很简单，常用来帮助 决定醇类的结构。 10 形成苯甲酸酯类 ROCOPh 制备时，用苯甲酰氯与醇类的吡啶中作用。苯甲酸酯较乙酯稳定，脱去苯甲酸酯需要 较激烈的皂代条件。 关于羟基保护的方法 羟基的保护基 1). 酯类保护基 t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al. 90% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453 酯类保护基的除去 (cleavage) 碱性条件下水解， 水解能力： t-BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH2CO 常用的碱： K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al