纳米测量精度光栅传感器研究综述 .docVIP

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  • 2021-12-05 发布于江苏
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纳米测量精度光栅传感器研究综述   光栅技术是精密测量主要的手段之一。它以实物形式提供测量基准,既可以采用低热膨胀系数的石英或零膨胀玻璃等材料作为基体,也可以采用具有和钢等材料热膨胀系数非常接近的玻璃或金属材料作为基体,使用稳定可靠、零点漂移小。因此,在大位移纳米测量领域,光栅纳米测量具有广泛的应用前景。   一、纳米测量精度光栅传感器研究和发展   1.1双光栅测量系统   双光栅是利用两块光栅迭合时所形成的莫尔条纹进行测量的。图1是高线数双光栅测量系统光路原理图,这种光栅结构主要包括光源、参考光栅、标尺光栅、角锥棱镜以及三个光电探测器,其工作原理如图2,其光路工作过程如下。   (1)光源发射出的光束A透射过参考光栅以后产生衍射光束,图中只显示±1级衍射光B和B’。   (2) B和B’两束衍射光与角锥棱镜,标尺光栅采用Littrow自准直安装,每一束光都首先入射标尺光棚,然后反射后的第1级衍射光进人角锥棱镜。光束B和B’的第1级衍射光分别为C、C’。   (3)C#92;C’的反射光D,D’从角锥棱镜出射,并且再次人射标尺光栅,此时与原反射光C, C’发生了平行于光栅刻槽的侧向位移。   (4)D,D’的第1级衍射光E, E’重新人射参考光栅,分别产生出射序列,E,E’是对称人射到参考光栅的同一点,并且它们的出射序列也重合在一起。   (5)在实际使用中,光电探测器1,2,

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