半导体材料工艺-提纯-区域熔炼培训课件.pptVIP

半导体材料工艺-提纯 ------区域熔炼 半导体材料工艺： 大致包括提纯、单晶制备、杂质与缺陷控制 提纯：化学法、物理法 化学法：材料制成中间化合物→除去某些杂质→材料从某种 容易分解的化合物中分离 物理法：区域熔炼技术→将半导体材料铸成锭条→形成熔化 区域→杂质分凝现象, 熔区从一端至另一端重复移 动多次后，杂质富集于锭条的两端→去掉两端材料 区域提纯： 区熔提纯是1952年美国科学家蒲凡提出的一种物