《表面分析方法》 (2).ppt

第四章 表面分析方法;4.1 概 述;“表面”的概念;表面分析方法的特点;探测粒子;探测粒子;表中仅列出了探测粒子为电子和光子的常用表面分析方法。 此外还有离子、中性粒子、电场、热、声波等各种探测手段。 这些方法各有其特点，而没有万能的方法，针对具体情况，我们可以选择其中一种或综合多种方法来分析。;4.2 X射线光电子能谱（XPS）;一、基本原理;整理课件;对于固体样品，X射线能量用于： 内层电子跃迁到费米能级，即克服该电子的结合能Eb； 电子由费米能级进入真空，成为静止电子，???克服功函数? ； 自由电子的动能Ek 。 则 h?＝ Eb＋ Ek ＋ ?;当样品置于仪器中的样品架上时，样品与仪器样品架材料之间将产生接触电势，这是由于二者的功函数不同所致，若??，则： 此电势将加速电子的运动，使自由电子的动能从Ek增加到Ek Ek ＋ ?＝ Ek ＋ ? h?＝ Eb＋ Ek ＋ ? Eb ＝ h? －Ek － ? 式中?是仪器的功函数，是一定值，约为4eV， h?为实验时选用的X射线能量为已知，通过精确测量光电子的动能Ek’ ，即能计算出Eb 。;整理课件;各种原子、分子轨道的电子结合能是一定的，据此可鉴别各种原子和分子，即可进行定性分析。 光电子能谱的谱线常以被激发电子所在能级来表示，如K层激发出来的电子称为1s光电子，L层激发出来的光电子分别记为2s,2p1/2,2p3/2电子等等。 X射线光电子能谱的有效探测深度，对于金属和金属氧化物是0.5～2.5nm,对有机物和聚合材料一般是4～10nm。;二、XPS的应用;表面污染分析 由于不同元素在XPS中会有各自的特征光谱，如果表面存在C、O或其它污染物质，会在所分析的物质XPS光谱中显示出来，加上XPS表面灵敏性，就可以对表面清洁程度有个大致的了解； 下图是Zr样品的XPS图谱，可以看出表面存在C、O、Ar等杂质污染。;整理课件;化学位移上的应用 不同的化学环境会导致核外层电子结合能的不同，这在XPS中表现为谱峰位置的移动，通过测量谱峰位置的移动多少及结合半峰宽，可以估计其氧化态及配位原子数； 下图是Cu的XPS光电子能谱图，显示了不同氧化态Cu的谱峰精细结构，可以看出，不同氧化态的铜，其谱峰位置、形状及半峰宽都有明显的变化。;整理课件;实例1：木乃伊所用的颜料XPS分析;4.3 俄歇电子能谱（AES);电子跃迁过程 原子的内层电子被击出后，处于激发态的原子恢复到基态有两种互相竞争的过程： 1）发射X射线荧光； 2）发射俄歇电子； 俄歇电子发射过程：原子内层电子空位被较外层电子填入时，多余的能量以无辐射弛豫传给另一个电子，并使之发射； 俄歇电子常用X射线能线来表示，如KLⅠLⅡ俄歇电子表示最初K能级电子被击出，LⅠ能级上的一个电子填入K层空位，多余的能量传给LⅡ能级上的一个电子并使之发射出来。俄歇跃迁通常有三个能级参与，至少涉及两个能级，所以第一周期的元素不能产生俄歇电子。;整理课件;俄歇电子产额 俄歇电子和X荧光产生几率是互相关联和竞争的，对于K型跃迁： 俄歇电子产额随原子序数的变化如图。 对于Z?14的元素，采用KLL电子来鉴定； 对于Z14的元素，采用LMM电子较合适； 对于Z?42的元素，选用MNN和MNO电子为佳。 ;整理课件;俄歇电子能量 俄歇电子的动能可通过X射线能级来估算，如KLⅠLⅡ俄歇电子的能为： ， 但这种表示并不严格，因为LⅠ、LⅡ都是指单电离状态的能量，发生俄歇跃迁后原子的状态是双重电离的，当LⅠ电子不在时， LⅡ电子的结合能自然要增加。一般地，对于凝聚态物质，俄歇电子的能量应为：;俄歇电子的逸出深度： 1～10? 俄歇电子峰的宽度： 取决于自然宽度和跃迁时所涉及到的能级本身的宽度，一般从几个电子伏特到10电子伏特以上。;AES与XPS的比较;4.4 扫描隧道显微镜（STM） 和原子力显微镜（AFM）;一、引言;不同类型的SPM主要是针尖特性及其相应“针尖－样品”间相互作用的不同， 包括： 扫描隧道显微镜（STM) 原子力显微镜（AFM) 摩擦力显微镜（LFM) 磁力显微镜（MFM) 扫描近场光学显微镜（SNOM) 弹道电子发射显微镜（BEEM); SPM对样品表面各类微观起伏特别敏感，即具有优异的纵向分辨本领，其横向分辨率也优于透射电镜及场离子显微镜。 各种显微镜的主要性能指标如下表：; 显微镜 类 型;二、扫描隧道显微镜（STM);基本原理;　　STM就是根据上述原理而设计的。 　　工作时，首先在被观察样品