薄膜技术第五章薄膜材料的评价表征及物性测量.pptVIP

* 主要讲授内容 第2章 真空技术基础 第3章 薄膜生长与薄膜结构 第4章 薄膜制备的基本工艺 溅射镀膜 第1章 薄膜技术简介 离子束沉积 化学气相沉积 第6章 薄膜材料的应用 第5章薄膜材料的评价表征及物性测量 表征、性质 和应用 薄膜制备方法的原理介绍 ， 典型薄膜材料的制备工艺介绍 真空蒸镀 薄膜的形核、生长理论 ， 薄膜的形成与典型成长机制 What’s the thin films?　 真空的表征及获得 第一页，共四十页。 第5章薄膜材料的评价表征及物性测量 5.1 膜厚的测量及控制 5.2 薄膜结构的表征 5.3 薄膜成分的表征 第二页，共四十页。 在薄膜制备过程中和沉积以后需要测量薄膜的厚度， 在薄膜沉积过程中的膜厚确定需采用原位测量。 5.1 膜厚的测量及控制 1 台阶仪 2 干涉仪 3 椭偏仪 4 振动石英方法 第三页，共四十页。 工作原理: 探针在垂直方向上的位移被通过电信号被放大, 并记录下来.从膜厚的边缘可以直接通过探针针尖所探测到的阶梯高度确定薄膜厚度. 采用类似原子力显微镜的激光反射悬臂梁的方法来测量纳米级位移可将扫描时的接触力降低到最小 0.05毫克，在软的样品上扫描时不划伤样品,保证测量值准确,避免划掉的颗粒再次影响测量准确性.这是薄膜厚度测试仪的第一重要指标,力越小,讨论分辨率,重复精度才有意义! 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 测量膜厚的的探针法 第四页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 XP-1 型台阶仪 第五页，共四十页。 XP薄膜厚度测试仪的其它特点: 扫描长度30mm(线性)? 这对平整度,曲率半径,薄膜应力测量极为重要。 2) 采样点数60,000? 目前市场上最大。 3) 探针曲率半径2.5微米或更小, 更高的横向分辨率. 4) WindowsXP平台的软件。 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 第六页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----台阶仪 第七页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----干涉仪 使用Fizeau盘实现，它能够发生多种反射导致一尖锐的干涉现象。膜厚可以通过在膜上形成阶梯，从而从干涉条纹极小值的漂移来测定膜的厚度。 2)X射线干涉仪(Kiessig条纹) 当掠入射时，X射线被平整表面反射和透过，反射级数稍稍不同于1，通过表面和界面反射的光程差，可求的膜厚。 1)光学厚度干涉 第八页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----椭偏仪 椭偏仪方法利用的是物质界面对于不同偏振态光具有不 一样的反射、折射能力的特性。即：偏振光在薄膜表面 与界面处的反射与透射现象。 椭偏仪工作原理：单色光经起偏镜转变为线偏振光之 后，通过1/4波长片转变为具有一定偏振状态的椭圆偏 振光，其后，此椭圆偏振光倾斜入射到薄膜样品的表 面，与薄膜样品发生相互作用。在此之后，使用检偏镜 和光检测器测的椭圆偏振光的强度。根据椭圆偏振方 程，借助计算机对其进行分析，即可确定薄膜的厚度和 其他光学性能。 第九页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----椭偏仪 第十页，共四十页。 5.1 膜厚的测量及控制-----石英晶体振荡法 这是一个动力学测重方法，通过沉积 物使机械振动系统的惯性增加，从而 减小振动频率。 原理：石英作为压电共振器，以切向 模式运动，具有一级振动频率，薄膜 沉积过程中，石英频率有一定的改变 量，石英的厚度增加与沉积质量等 价，进而确定膜的厚度。 测量灵敏度主要由石英厚度的力学极 限和参考振荡器的稳定性决定。 可用于在线监测 第十一页，共四十页。 5.2 薄膜结构的表征 薄膜的性能取决于薄膜的结构和成分。其中薄膜结构的 研究可以依所研究的尺度范围划分为以下三个层次： 1、薄膜的宏观形貌，包括薄膜尺寸、形状、厚度、均 匀性等； 2、薄膜的微观形貌，如晶粒及物相的尺寸大小和分 布、孔洞和裂纹、界面扩散层及薄膜结构等。 3、薄膜的显微组织，包括晶粒内的缺陷、晶界及外延 界面的完整性、位错状态等。 第十二页，共四十页。 1、从宏观到微观 光学显微镜OM、扫描电镜SEM观察形貌； XRD检测相； SEM、电子探针EPMA测成分 透射电镜鉴定相和组织 2、由易到难 光学（形貌）????SEM（形貌）???? XRD（相鉴定）???? EPMA（成分定量） TEM（微区的形貌、相鉴定、成分） 5.2 薄膜结构的表征 第十三页，共四十页。 5.2 薄膜结构的表征------X射线衍射 1、X射线衍射法 常规确定材料的结构的方 法。X射线衍射是确定三维有序固体的经典和成熟的技术。 2dhklsinθB= n λ ZAO的X射线衍射