原创力文档- 1、本文档共17页，其中可免费阅读6页，需付费200金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
PAGE
PAGE 2
氮气含量对溅射法制备氮化钛薄膜结构特性的影响
摘 要
本次实验通过SK-CK450C型号的磁控溅射设备，在不同氮气条件下，在洁净的硅片表面上分别制备了不同的氮化钛薄膜。实验中，采用EDX、SEM和拉曼光谱仪测试分析研究了其元素组分、表面形貌和晶体结构。结果表明：15%氮气含量下获得的样品符合化学计量比，其表面非常平整，为平整致密的微晶薄膜。随着氮气含量的降低，薄膜生长厚度增加，氮元素含量逐渐降低，导致内部应力增大，薄膜表面出现了大
文档评论（0）