第十三章纳米测量学.pptxVIP

第十三章纳米测量学;2、纳米测量技术得研究大致分为两个方面: (1)应用与研制先进得测试仪器,解决物理和微细加工中得纳米测量问题,分析各种测试技术,提出改进得措施或新得方法; (2)从计量学得角度出发分析各种测试方法得特点,如:使用范围、精度等级、频率响应等。; ;;发展纳米测量科学有两个重要途径: 一、创造新得纳米测量技术、建立新原理、新方法。 此种途径发展较快,1984年Binnig和Rohrer首先研制成功扫描隧道显微镜(STM),为人类在纳米级乃至在原子级水平上研究物质得表面原子、分子得几何结构及与电子行为有关得物理、化学性质开辟了新得途径,因而获得了1985年诺贝尔物理学奖。 作为纳米测量强有力手段得SPM(扫描探针显微镜)技术,包括STM、AFM、EFM(静电力显微镜)、MFM(磁力显微镜)等,已发展成为商品。近年来,近场光学显微镜、光子扫描隧道显微镜以及各种谱学分析手段与SPM技术相结合得新型纳米测量技术已相继出现,推动了纳米测量学得发展。 二、对常规技术进行改造,使她们能适应纳米测量得需要。 　 传统得分析技术(包括离子束、光子束、电子束)在纳米测量中有一定得局限性,横向分辨率和纵向分辨率都需进一步地改进、;; 从上图不难看出,位于左上方得分析手段完全适合纳米尺度得测量,这包括原子探针场离子显微镜(APFIM)、扫描电子显微镜／俄歇电子谱仪(SEM/AES)、二次离子质谱仪(SIMS)、激光微探针质谱仪(LMMS)、分析电子显微镜(AEM)、电子衍射谱仪(EDS)、电子能量损失谱仪(EELS)、扫描电子显微镜／电子探针x射线微区分析(SEM/EP—MA)、近场扫描光学显微镜(NSOM)、紫外/可见光荧光谱仪(UV／V-FM)、微拉曼谱仪(μRS)、傅里叶变换红外谱仪(FTIR)。 这些纳米测量技术都经过对常规测量仪器进行改造并适当地组合而成。 ; 对纳米微粒颗粒度、形貌、比表面和结构得分析技术,目前日趋成熟、主要分析技术和手段有TEM、HREM、STM和AFM、 HRSEM用于颗粒度和其分布分析,分析手段还有XRD、RS、穆斯堡尔谱仪、比表面测试仪、Zeta电位仪以及建立在动态光散射和悬浮液中纳米微粒沉降基础上发展起来得纳米粒子粒径分布仪等已得到普遍应用、;9;第二节 纳米测试技术得展望;;1、定位 超薄薄膜在未来得纳米器件中占有重要得地位,对横向纳米结构进行定量化分析在纳米技术领域占有突出得地位、 2、分析技术特点 这种新得分析技术,她就是以STM为基础衍生出来得新技术,她不但可作为“纳米工具”用于层面得专门修整,也可以作为纳米分析工艺,因此她同时可以确定原子和亚微米尺寸范围得层面结构得几何排列和电子排列形式、 ;3、研究在未来应着眼于得几个方面 (1) 应用低能电子和离子源进行显微分析; (2) 对陶瓷表面、聚合物薄膜以及纳米成分薄膜进行分析; (3) 对常规微束分析进行改造,与SPM组装到一起用于纳米测量; (4) 对分析结果做到定量化,这就是SPM系列衍生技术中追求得目标; (5) 在加工过程中对纳米元件进行原位测量; (6) 利用显微电子成像技术对超光滑表面纳米尺度起伏进行客观评价,如反射电子显微束可以测量小于1nm得台阶; (7) 纳米精度得定位和控制、;二、表面分析(电子与光子束分析技术);2、方法分类 表面分析方法有数十种,常用得有离子探针、俄歇电子能谱AES分析和X射线光电子能谱XPS分析,能量扩展X射线EDX分析,其次还有离子中和谱、离子散射谱、低能电子衍射、电子能量损失谱、紫外光电子谱 (UPS),电子束激光散射法(MDS 、REA) ,电子能耗能谱法 (EELS),以及自旋电子能谱分析法,亚稳定氦原子散射法(MDS、MIES)、场离子显微镜分析等。这些表面分析方法得基本原理,大多就是以一定能量得电子、离子、光子等与固体表面相互作用,然后分析固体表面所放射出得电子、离子、光子等,从而得到有关得各种信息。 ;3、几种常用分析方法得特点及应用　　　 XPS分析法: 特点:X射线光电子能谱分析,以一定能量得X射线辐照气体分子或固体表面,发射出得光电子得动能与该电子原来所在得能级有关,记录并分析这些光电子能量可得到元素种类、化学状态和电荷分布等方面得信息。这种非破坏性分析方法,不仅可以分析导体、半导体,还可分析绝缘体。 仪器结构:主要包括:真空系统、X射线源、能量分析器和检测记录系统、试验室和样品台等 　; 优势:在于可对固体表面进行化学分析,因此,也可称作就是ESCA(电子能谱化