(完整版)X射线光电子能谱分析(XPS).pdf

(完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)--第1页 第18章 X射线光电子能谱分析 18.1 引言 固体表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法，特别是对于固体材料的 分析和元素化学价态分析。目前常用的表面成分分析方法有：X 射线光电子能谱 （XPS ）, 俄歇电子能谱(AES)，静态二次离子质谱(SIMS)和离子散射谱(ISS) 。AES 分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究，而XPS 的应用面则广泛得多， 更适合于化学领域的研究。SIMS 和ISS 由于定量效果较差，在常规表面分析中的 应用相对较少。但近年随着飞行时间质谱（TOF-SIMS ）的发展，使得质谱在表面 分析上的应用也逐渐增加。本章主要介绍X 射线光电子能谱的实验方法。 X 射线光电子能谱（XPS ）也被称作化学分析用电子能谱（ESCA ）。该方法 是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn 教授发展起来的。由于在光电子能谱的 理论和技术上的重大贡献，1981 年，Kai Siegbahn 获得了诺贝尔物理奖。三十多 年的来，X 射线光电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。 XPS 已从刚开始主要用来对化学元素的定性分析，业已发展为表面元素定性、半 定量分析及元素化学价态分析的重要手段。XPS 的研究领域也不再局限于传统的 化学分析，而扩展到现代迅猛发展的材料学科。目前该分析方法在日常表面分析 工作中的份额约50% ，是一种最主要的表面分析工具。 在XPS 谱仪技术发展方面也取得了巨大的进展。在X 射线源上，已从原来的 激发能固定的射线源发展到利用同步辐射获得X 射线能量单色化并连续可调的激 发源；传统的固定式X 射线源也发展到电子束扫描金属靶所产生的可扫描式X 射 线源；X 射线的束斑直径也实现了微型化，最小的束斑直径已能达到6m 大小, 得XPS 在微区分析上的应用得到了大幅度的加强。图像 XPS 技术的发展， 大大促进了XPS 在新材料研究上的应用。在谱仪的能量分析检测器方面，也从传 统的单通道电子倍增器检测器发展到位置灵敏检测器和多通道检测器，使得检测 灵敏度获得了大幅度的提高。计算机系统的广泛采用，使得采样速度和谱图的解 析能力也有了很大的提高。 由于XPS 具有很高的表面灵敏度，适合于有关涉及到表面元素定性和定量分 析方面的应用，同样也可以应用于元素化学价态的研究。此外，配合离子束剥离 技术和变角XPS 技术，还可以进行薄膜材料的深度分析和界面分析。因此，XPS 方法可广泛应用于化学化工，材料，机械，电子材料等领域。 18.2 方法原理 X 射线光电子能谱基于光电离作用，当一束光子辐照到样品表面时，光子可以 被样品中某一元素的原子轨道上的电子所吸收，使得该电子脱离原子核的束缚， 以一定的动能从原子内部发射出来，变成自由的光电子，而原子本身则变成一个 激发态的离子。 在光电离过程中，固体物质的结合能可以用下面的方程表示：  E = h - E -  （18.1） k b s Page 1 (完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)--第1页 (完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)--第2页 式中 E  出射的光电子的动能, eV; k  h X 射线源光子的能量, eV； E  特定原子轨道上的结合能, eV； b   谱仪的功函, eV。 s 谱仪的功函主要由谱仪材料和状态