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一种水基微电子剥离清洗组合剂.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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一种水基微电子剥离清洗组合剂.pdf

    本发明公开了一种水基微电子剥离清洗组合剂，包括纯水、金属保护液、脱胶液、腐蚀抑制剂、相容液、过硫酸钠、异丙醇，所述相容液为丙二醇，所述金属保护液包括纯水、聚马来酸酐以及二乙基次膦酸锌，所述脱胶液为次氯酸季烷基铵的甲基吡咯烷酮溶液，所述腐蚀抑制剂为景天庚酮糖的水溶液。本发明属于电子元器件生产清洗技术领域，具体是提供了一种可以使晶圆表面卤素离子含量降低，可以在金属表面形成金属保护膜，阻止氯离子、氧气、氢氧根离子对金属腐蚀，可以快速清洗掉光刻胶，可以进一步减少对金属的腐蚀，可以使蚀刻残余物被溶解或冲走

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114292703 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111558194.3 C11D 3/36 (2006.01)

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