1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种非显影式的光刻方法.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约4.44千字
  • 约 5页
  • 2023-05-10 发布于四川
  • 举报

一种非显影式的光刻方法.pdf

    本发明涉及一种非显影式的光刻方法，包括以下步骤：步骤1：光刻光和指引光分别通过第一准直透镜和第二准直透镜进行准直处理；步骤2：经由二向色镜合束，通过聚焦透镜射入匀光模组的入射端面；步骤3：通过匀光模组后的光线再次通过第三准直透镜；步骤4：准直光通过反射镜反射至第一分光片，并由第一分光片将一部分分光反射至光掩模板上；步骤5：反射回来的光将带有光掩模板上的信息，并通过第二分光片和照明光进行合束处理；步骤6：合束后将带有信息的光通过第三分光片，光束打到基底上的光刻胶，照射出光掩模板上面的信息；步骤7：

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114518694 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202011309897.8 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人 赫智科技(苏州)有限公司 地址 2

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >