光刻工艺的资料.pptxVIP

光刻工艺的资料;;光刻胶;聚合物 聚合物是由一组大而且重的分子组成，包括碳、氢和痒。对负性胶，聚合物曝光后会由非聚合状态变为聚合状态。在大多数负性胶里面，聚合物是聚异戊二烯类型。是一种相互粘结的物质－－抗刻蚀的物质，如图所示。受光照部分产生交链反应而成为不溶物 ; 正性胶的基本聚合物是苯酚－甲醛聚合物，也称为苯酚－甲醛树脂。如图所示。 在光刻胶中聚合物是相对不可溶的，用适当能量的光照后变成可溶状态。这种反应称为光溶解反应。受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解 ;溶剂 光刻胶中容量最大的成分是溶剂。添加溶剂的目的是光刻胶处于液态，以便是光刻胶能够通过旋转的方法涂在晶园表面。 感光剂 光刻胶中的感光剂是用来产生或者控制聚合物的特定反应。如果聚合物中不添加感光剂，那么它对光的敏感性差，而且光谱范围较宽，添加特定的感光剂后，可以增加感光灵敏度，而且限制反应光的光谱范围，或者把反应光限制在某一波长的光。 添加剂 光刻胶中的添加剂主要在光刻胶薄膜中用来吸收和控制光线，可以阻止光刻胶没有被曝光的部分在显影过程中被溶解。; 光刻掩膜板的基材一般为熔融石英，这种材料对深紫外光具有很高的光学透射。掩膜板的掩膜层一般为铬 （Cr） 如果掩膜版的图形是由不透光的区域决定的，称其为亮场掩膜版；而在一个暗场掩膜版中，掩膜版上的图形是用相反的方式编码的，如果按照同样的步骤，就会在基片表面留下凸起的图形。 ;光刻的设备及工具;光刻步骤及操作原理;涂胶;静态涂胶工艺;动态喷洒 随着基片直径越来越大，静态涂胶已不能满足要求，动态喷洒是基片以500rpm的速度低速旋转，其目的是帮助光刻胶最初的扩散，用这种方法可以用较少量的光刻胶而达到更均匀的光刻胶膜。待扩散后旋转器加速完成最终要求薄而均匀的光刻胶膜。 ;涂胶; 光刻胶覆盖;前烘;曝光;曝光方法;曝光;显影;沉浸显影;喷射显影;混凝显影;干法显影;显影;显影后检查;后烘坚膜;腐蚀和去胶;;感谢观看!