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本发明构思涉及一种用于控制X射线源的方法，该X射线源被配置为从靶标上的X射线光斑发射通过电子束与该靶标之间的相互作用而生成的X射线辐射，其中，该X射线光斑由该X射线源的X射线光学系统的视场确定。该方法包括：提供靶标；提供电子束，该电子束在该靶标上形成电子光斑并且与该靶标相互作用以生成X射线辐射；以及调整该电子束的宽度和总功率，使得该电子光斑中的功率密度曲线的最大值低于预定极限，并且使得传递到该靶标的X射线光斑中的总功率增加。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112205081 A
(43)申请公布日 2021.01.08
(21)申请号 201980034990.1 (74)专利代理机构 北京安信方达知识产权代理
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