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- 2023-06-06 发布于四川
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本发明公开了一种1064nm激光吸收染料及制备方法、光学‑红外‑激光兼容隐身涂层,该激光吸收染料在1064nm处具有良好的选择性吸收特性,摩尔消光系数为4.2×105M‑1·cm‑1,半峰宽为56nm。该制备方法包括N‑烷基化季胺盐、甲基取代的萘基吲哚型衍生物的合成以及耦联合成最终产物等步骤,该制备方法工艺简单,适用于大规模生产。基于该激光染料良好的激光吸收特性,本发明将所合成染料用于光学‑红外‑激光兼容隐身涂层,通过将激光吸收染料与树脂、光学颜料和低发射率填料等结合,提供了光学颜色满足伪装标准
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112759946 A
(43)申请公布日 2021.05.07
(21)申请号 202011638882.6 C09D 175/04 (2006.01)
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