一种电镀工艺制备铋薄膜的方法、铋薄膜及其应用.pdfVIP

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  • 2023-06-07 发布于四川
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一种电镀工艺制备铋薄膜的方法、铋薄膜及其应用.pdf

本发明提供一种电镀工艺制备铋薄膜的方法、铋薄膜及其应用。该方法包括将电镀液注入电镀槽中,以铜片作为阴极,不锈钢作为阳极,在电流密度为0.5A/dm2~2.5A/dm2,电镀液温度为20℃~40℃,电镀时间为2min~10min,在酸性或中性的环境条件下接通直流电源进行电镀,沉积在阴极铜片表面的膜即制得的铋薄膜。本发明采用电镀工艺,通过调控电流密度、施镀时间以及施镀温度对镀铋薄膜进行控制,制备出表面平滑光亮、孔隙率低、结合力好,厚度易控等特点的铋薄膜。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219504 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310284863.5 (22)申请日 2023.03.22 (71)申请人 燕山大学 地址 066004

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