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2023-06-11 发布于四川
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一种使用负性黑色光刻胶的夹层沉浸式光刻方法.pdf

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本发明涉及一种使用负性黑色光刻胶的夹层沉浸式光刻方法。本发明将负性黑色光刻胶涂布于基材表面并软烘后，在上方展平一层高折射率液体，再以1～3kg的力压上掩模，UV曝光，用有机溶剂洗去残留高折射率液体并进行后续的显影、完全固化。与现有技术相比，只需要在光刻胶和掩模之间夹一层稀薄的高折射率液体层即可实现大幅度提高分辨率，而不需要镜头与该液体接触，从而极大地简化了清洗过程。该高折射率液体多为硅油，清洗后不会对光刻胶和掩模的性质造成影响。该技术可用于制造高分辨率的电子设备，例如OLED黑色像素界定层。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112987510 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110252945.2 (22)申请日 2021.03.09 (71)申请人史耿共我地址 33

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