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本发明提供了一种能够呈现结构色的辐射制冷多层膜结构。包括顶部辐射制冷器结构和底部成色器结构,成色器结构包括自下而上堆叠形成的MIM结构和二周期一维准光子晶体结构。所述的多层膜结构的总厚度为1.657μm~1.87μm,以石英玻璃或Si作为基底材料,所述的结构在太阳光波段具有较强的反射能力,在大部分太阳光波段的反射率达到0.9以上。本发明的多层膜结构可克服目前辐射制冷结构由于颜色单一的应用场合受限问题。且相对于可呈现结构色的辐射制冷超表面光子器件,该一维结构色辐射制冷多层膜具有制造成本较低,工艺简
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112984857 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110255747.1
(22)申请日 2021.03.09
(71)申请人 上海
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