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本发明公开了一种在多孔薄膜中通过双光子聚合构建多层图案的方法。本发明通过双光子三维打印实现在高分子薄膜中多层结构的构建。目前常规化的双光子三维打印由于缺少基底的支撑,难以多层打印独立结构。本发明将双光子聚合和多孔的高分子薄膜材料相结合,利用近红外激光诱导单体在多孔的高分子薄膜内发生双光子聚合反应。通过调节光斑焦点在高分子薄膜中的位置,从而使单体在高分子薄膜的不同深度发生聚合,构造多层相互独立的微结构。可利用程序设计不同图案,在高分子薄膜内部生成不同深度的不同结构,其中多孔的高分子薄膜对打印的微纳
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113246462 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202110357990.4 G03F 7/027 (2006.01)
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