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本发明涉及一种基于飞秒激光的裂纹式纳米缝隙结构制备方法，属于激光应用技术领域。本发明通过空域整形技术将传统高斯飞秒激光束整形成双峰或多峰光束，基于飞秒激光诱导材料无定形化以及飞秒激光诱导冲击波现象，在硅表面诱导出具有多处应力集中结构的无定形硅刻蚀掩模。这种具有应力集中结构的刻蚀掩模是湿法刻蚀过程中形成纳米裂纹扩展的关键。在后续湿法刻蚀过程中，受溶液钻蚀的影响，有应力集中结构的刻蚀掩模由于被刻蚀成悬空态而将应力释放，同时在溶液表面张力作用下在应力集中处产生纳米裂纹扩展，从而形成极小尺寸(10nm以
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113247859 B
(45)授权公告日 2022.07.15
(21)申请号 202110524022.8 B82Y 40/00 (2011.01)
(22)申请日 2021.05
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