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基板处理设备和基板处理方法.pdfVIP

基板处理设备和基板处理方法.pdf

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    本发明提供一种基板处理方法，包括：通过使用通过激发第一气体而产生的第一等离子体来处理所述基板的第一处理操作；以及通过使用通过激发不同于所述第一气体的第二气体而产生的第二等离子体来处理所述基板的第二处理操作。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116364540 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202210814754.5 (22)申请日 2022.07.11 (30)优先权数据 10-2021-0189911

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