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具有加热器的半导体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-07-08 发布于四川
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具有加热器的半导体处理装置.pdf

    本公开涉及半导体沉积反应器歧管的实施例，该半导体沉积反应器歧管可用于使用诸如原子层沉积(ALD)的过程来沉积半导体层。该半导体沉积反应器歧管包括加热器块，加热器元件安装在歧管体上。有利地，加热器块可拆卸地安装，以便于更换。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116397215 A (43)申请公布日 2023.07.07 (21)申请号 202211596083.6 (22)申请日 2022.12.12 (30)优先权数据

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