半导体器件半导体工艺介绍薄膜淀积_2.pptxVIP

下载本文档

2
0
约小于1千字
约 19页
2023-08-29 发布于江苏
举报
版权申诉

半导体器件半导体工艺介绍薄膜淀积_2.pptx

1、本文档共19页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

会计学;薄膜淀积（沉积）;金属有机化学气相沉积（Metal organic chemical vapor deposition ）;作为有机化合物原料必须满足的条件：;MOCVD综合评价： MOCVD设备相对其他设备价格要贵，不光是设备本身贵而且维护费用也贵。 MOCVD设备还是有很多优势的，一是控制极为精密，能生产出高质量的材料；二是便于规模化生产，只要材料研发成功极易转产业化。所以使用MOCVD设备是很多高校和科研单位的首选。;存在问题; MOCVD设备;物理沉积PVD;物理沉积方法;热蒸发技术 (Thermal Evaporation Technique);热蒸发-几种典型结构;挡板;电子束蒸发 (E-beam Evaporation Technique);E-beam Evaporation Machine;溅射技术 (Sputtering);离子溅射技术物理过程;经典范例——GaAs薄膜的生长;优点