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CVD 碳化硅涂层产品技术要求 CVD silicon carbide coating product technical requirements （征求意见稿） I T/CASME XXXX—XXXX 目 次 前言 II 1 范围 1 2 规范性引用文件 1 3 术语和定义 1 4 一般规定 1 5 技术要求 1 6 试验方法 2 7 检验规则 4 8 标志、使用说明书、包装、运输和贮存 5 1 T/CASME XXXX—XXXX CVD 碳化硅涂层产品技术要求 1 范围 本文件规定了CVD碳化硅涂层产品的术语和定义、一般规定、技术要求、试验方法、检验规则及 标志、使用说明书、包装、运输和贮存内容。 本文件适用于CVD碳化硅涂层产品。 2 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件， 仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本 文件。 GB/T 7997 硬质合金 维氏硬度试验方法 GB/T 9969 工业产品使用说明书 总则 GB/T 16535 精细陶瓷线热膨胀系数试验方法 顶杆法 GB/T 21782.2 粉末涂料 第2部分：气体比较比重仪法测定密度(仲裁法) GB/T 31563 金属覆盖层 厚度测量 扫描电镜法 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 3.1 化学气相沉积 chemical vapor deposition(CVD) 是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上 进行化学反应生成薄膜的方法。 3.2 碳化硅涂层 silicon carbide coating 是指采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备SIC涂层的方法。 4 一般规定 4.1 石墨基底原料应满足涂层的要求。 4.2 石墨基底原料应经过纯化，纯化后杂质含量应小于 10ppm。 4.3 涂层厚度：50μm～300μm。 4.4 涂层表面应光滑平整，无裂纹、划痕、分层气泡等现象，无涂抹、污点或缺角。 4.5 涂层的色泽应为灰色并有金属光泽。 5 技术要求 5.1 涂层厚度 根据不同行业需求，化学气相沉积法制备石墨表面碳化硅涂层厚度可调整。 5.2 涂层密度 化学气相沉积法制备碳化硅涂层的理论密度为3.2g/cm3 ，如果测试密度结果偏差达到﹣20% ，则说 明该涂层并不致密。 5.3 涂层弯曲强度 化学气相沉积法制备碳化硅涂层的理论弯曲强度为：540℃时，345MPa；1300℃时，172MPa。 2 T/CASME XXXX—XXXX 5.4 涂层抗压强度 化学气相沉积法制备石墨表面碳化硅涂层的抗压强度理论数值为：428MPa。 5.5 涂层耐化学性 5.5.1 耐酸性 涂层试样分别在下列酸性腐蚀液（37%HCl（盐酸）、98%H2SO4（硫酸）、65%HNO3（硝酸）和 HF+HCl（氟化氢+盐酸） ）中，加热至沸点，维持1小时后冷却，再静置24小时，用丙酮溶液清洗后， 质量应无失重。 5.5.2 耐碱性 涂层试样分别在下列碱性腐蚀液（10%NaOH（氢氧化钠）和10%KOH（氢氧化钾） ）中，加热至 沸点，维持1小时后冷却，再静置24小时，用丙酮溶液清洗后，质量应无失重。 5.5.3 耐盐性 涂层试样在10%NaCl（氯化钠）溶液中加热至沸点，维持1小时后冷却，再静置24小时，用丙酮溶 液清洗后，质量应无失重。 5.6 涂层抗热震性 化学气相沉积法制备石墨表面碳化硅涂层在400 、500 、600 、700 、800 、900 、1000℃下，抗热震次 数分别低于20 、16 、12 、8 、5 、3 、1次时，可判定该样品热震测试不合格。 5.7 涂层耐磨性 化学气相沉积法制备石墨（样品尺寸10cm*6cm*4cm）表面碳化硅涂层（厚度150μm±50μm）在通 过磨损机实验后，损失质量超过0.5g即为耐磨性不合格。磨损机参数设定为载荷100N ，试验机转速 100r/min ，预设时间0.5h 。磨损机使用SiC砂轮片，磨损半径35mm。 5.8 涂层表面硬度 化学气相沉积法制备石墨碳化硅涂层的努氏硬度应高于1200，维氏硬度应高于2500，洛氏硬度应高 于85。 5.9 涂层色泽 化学气相沉积法制备石墨碳化硅涂层的色泽应为灰色并有金属光泽。 5.10 涂层热膨胀系数 化学气相沉积法制备石墨碳化硅涂层的热膨胀系数一般由热膨胀仪测定，结果参数值应该在 3.5* 106/℃至4.5