电子枪、电子射线应用装置以及电子束的射出方法.pdf

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115380355 A (43)申请公布日 2022.11.22 (21)申请号 202180026051.X (74)专利代理机构 北京东方亿思知识产权代理 有限责任公司 11258 (22)申请日 2021.03.30 专利代理师 刘军 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2020-073311 2020.04.16 JP H01J 37/073 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.09.29 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/013455 2021.03.30 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/210382 JA 2021.10.21 (71)申请人 日商光电魂股份有限公司 地址 日本爱知县 (72)发明人 西谷智博 佐藤大树  权利要求书2页 说明书12页 附图4页 (54)发明名称 电子枪、电子射线应用装置以及电子束的射 出方法 (57)摘要 本发明提供一种能够延长光电阴极的寿命 的电子枪,其包括在第一表面形成有光电阴极膜 的基板、用于将激发光照射在光电阴极膜的光 源、阳极、用于加热光电阴极膜和/或基板的加热 装置、以及用以调整加热装置的加热温度的输出 调整装置。 A 5 5 3 0 8 3 5 1 1 N C CN 115380355 A 权 利 要 求 书 1/2页 1.一种电子枪,包括: 基板,在第一表面形成有光电阴极膜; 光源,用于将激发光照射在所述光电阴极膜; 阳极; 加热装置,用于加热所述光电阴极膜和/或所述基板;以及 输出调整装置,用以调整所述加热装置的加热温度。 2.如权利要求1所记载的电子枪,还包括真空腔室, 其中,所述加热装置被配置于所述真空腔室内,并且直接或间接地加热所述基板。 3.如权利要求2所记载的电子枪,包括: 固定座,用以保持所述基板; 其中,所述加热装置被配置在所述固定座。 4.一种电子枪,包括: 基板,在第一表面形成有光电阴极膜; 光源,用于将激发光照射在所述光电阴极膜; 阳极; 加热装置,用于加热所述光电阴极膜和/或所述基板;以及 真空腔室; 其中,所述加热装置被配置于所述真空腔室外,并且从所述真空腔室的外侧加热所述 光电阴极膜和/或所述基板。 5.如权利要求4所记载的电子枪,还包括用以调整所述加热装置的加热温度的输出调 整装置。 6.如权利要求1至3、5中的任一项所记载的电子枪,还包括: 测定部,用以测定自所述光电阴极膜射出的电子束的随着所述光电阴极膜的劣化所产 生的强度变化;以及 控制部,根据所述测定部的测定结果来控制所述输出调整装置。 7.如权利要求6所记载的电子枪,其中, 所述控制部根据所述测定部的测定结果来调整自所述光电阴极膜射出之所述电子束 的强度。 8.一种电子射线应用装置,包括权利要求1至7中的任一项所记载的电子枪的电子射线 应用装置,其中,所述电子射线应用装置是:

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