氮化钼基纳米复合硬质薄膜的制备、表征及性能研究的中期报告.docxVIP

氮化钼基纳米复合硬质薄膜的制备、表征及性能研究的中期报告 本研究旨在制备氮化钼基纳米复合硬质薄膜，并对其进行表征并探究其性能。 制备方法 本实验采用磁控溅射技术制备氮化钼基纳米复合硬质薄膜。具体过程如下： 1. 清洗基片：首先，采用酒精和丙酮将基片清洗干净。之后，在表面进行氧化处理以形成一层氧化铬保护层。 2. 制备底层薄膜：使用铜靶进行底层薄膜的制备，制备过程中，氮气流量为20sccm，工作压力为0.8Pa，薄膜厚度为50nm。 3. 制备氮化钼基纳米复合硬质薄膜：在底层薄膜上部署钼-氮化钼靶，氮气流量为5sccm，薄膜厚度为300nm。 表征方法 实验采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)等表征手段对该氮化钼基纳米复合硬质薄膜进行表征。 结果分析 经过表征发现，所制备的氮化钼基纳米复合硬质薄膜表面平滑且无明显瑕疵，XRD测试结果表明所制备的薄膜具有类似氮化钨的晶体结构，并且硬度较高。IR测试结果表明该薄膜中存在着氮化物、氧化物等化学基团，在薄膜的形成过程中产生了一个保护层，有助于提高薄膜的稳定性和性能。 结论 本研究成功制备了氮化钼基纳米复合硬质薄膜，并对其进行了表征和分析。结果表明，所制备的薄膜表面平滑且无明显瑕疵，硬度较高，具有很好的机械性能。未来的研究方向是进一步探究其性能及应用领域，并对制备过程中的一些参数进行调整以提高薄膜的性能。