氰化镀铜的沉积速度慢,深镀能力差,怎么办?.docx

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氰化镀铜的沉积速度慢,深镀能力差,怎么办? 可能原因:阴极电流密度太小 处理方法:a.检查并校核电流表的准确度。 b.准确测量受镀工件的表面积,合理设定电流密度,不可过大或过小,在整流器的选型时,尽量选择稳流型整流器。 钢铁件、铜及铜合金、锌合金的预镀铜采用2倍电流密度冲击,保证深凹处能镀上铜,最大设置的Dk为2.6A/dm2,冲击镀1min,然后恢复正常电流密度Dk=1.0~1.3A/dm2,施镀至所需厚度的镀层。 铝金合件预镀用的电流密度及时间的设置:Dk=2.6A/dm2,1min;然后正常镀,Dk=1.3A/dm2,3min。 铝及铅合金的工件,预镀层应有足够的厚度(大于2.5μm),先使用低电流密度(小于Dk的一半),以不生产气体为准,镀1~2min后,再转为正常电流密度(Dk约为1.0~1.3A/dm2),电镀至所需的镀层厚度。

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