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dmd在高动态成像探测系统中的应用.docxVIP

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dmd在高动态成像探测系统中的应用 1 图像传感器的发展 在高动态辐射场景的成像中,有必要同时测量明亮和黑暗的目标。然而,如果在视觉上有明亮的物体,图像传感器很容易生成局部饱和,该区域的信息丢失,电视设备无法正常工作。如光电经纬仪在工作过程中, 高动态场景下需要捕获的亮目标与暗目标之间的光照强度之比一般在一百万以上, 通常要求成像设备具有很大的动态范围;在深空星体观测中, 如果在视场内存在两颗星, 星等相差达到10等以上, 普通成像系统就不能同时准确观测到两颗星体;在航天侦查、观测等领域, 当星载光电成像设备的指向与太阳夹角比较小时, 会造成图像传感器的大面积饱和, 形成日晕、blooming等现象, 使光电成像设备失灵。 目前, 提高高动态辐射场景成像探测能力的主要手段有: (1) 增大图像传感器的像元尺寸; (2) 采用双图像传感器成像方法, 其中一个积分时间长, 另一个积分时间短; (3) 改变CMOS图像传感器的读出结构, 将图像传感器的信号输出幅度与接收的光电子数由线性关系变为对数关系; (4) 采用设定多帧不同积分时间的高帧频的图像传感器进行连续快速成像, 再通过多帧不同感光程度合成图像。但上述方法的成像动态范围较小 (60~80dB) , 而且某些图像为非同一时刻获得的图像, 需要进行图像增强后处理。因此, 这些技术手段无法满足实时成像观察测量多个高亮度目标的要求。 数字微透镜 (Digital Micromirror Device, DMD) 为TI公司生产的一种空间光调制器, 主要用于投影或仿真系统。DMD结合图像传感器能够解决高动态场景中同时探测强弱目标的问题, 该方法中视场光线通过一个由图像传感器的像素值控制的DMD空间光调制器, 使得图像传感器上每个像素的曝光时间由此像素探测到的场景光强控制。本文针对高动态辐射场景的成像探测, 设计了能使探测系统的探测动态范围扩增66dB的DMD驱动控制, 并对主要设计模块以及参数进行了分析, 最后通过实验验证了此控制设计的正确性。 2 dmd光强调制 DMD是一种被集成在寻址集成芯片上的快速数字光开关反射阵列, 由许多小型铝制反射镜面构成 (见图1 (a) ) , 镜片的数量由显示分辨率决定, 一个小镜片对应一个像素。数以百万计的微镜面用铰链结构建造在由硅片衬托的CMOS存储器上, 每个微小镜面单元下的一对寻址电极与其下方SRAM单元CMOS电路的电压互补端通过导电通道连接。系统依靠SRAM单元对每个微镜寻址, 通过改变每个微镜面在CMOS下的地址电压, 可以产生静电力驱动DMD的每个微镜的旋转, 微镜的旋转角度有两种稳定的镜片状态 (+12°和-12°) 。如图1 (b) 所示, 当DMD受到光源照射时, 微镜面的正负两态将入射光分别以不同角度反射, 调整入射光线角度, 将这两态的微镜面对应成系统的亮暗两种像素, 从而使投射到DMD上的光线有选择地反射而形成黑白点像素。 在高动态辐射场景成像探测系统中 (如图2所示) , 目标光线通过DMD光调制器后, 反射到图像探测器上。根据探测器获得的图像数据产生掩模数据, 用此数据去调整DMD上相应位置的微反射镜的开关状态以及开关时间, 以达到调整像面局部区域光强的目的。掩模数据 (一帧母掩模由n帧二进制子掩模组成, 每个子掩模的作用时间不同) 即为图2中的二进制数据, 其对应的调光权值如表1所示。通过调节光强控制权值ri可以实现对图像传感器上对应像素点不同层次的光强控制, 从而提高光电成像设备的可探测动态范围。 作为光强调制器件, DMD的优点为: (1) DMD光强调制器件采用反射式结构, 光能利用率高, 可达68%以上; (2) DMD所有微镜的控制可以同步完成, 保证光能可同一时刻到达图像传感器; (3) 利用微镜摆动次数实现光强调制, 线性度高, 有利于原始图像数据的恢复; (4) 其光强调制的动态范围依赖于刷新频率, 当刷新频率较低时 (10c) , 其动态范围可以很高, 达到66+dB。帧频更低时可以得到更高的动态范围; (5) DMD的像元尺寸与CCD相机像素相匹配, 能够对像面进行像素级的空间调制; (6) 响应速度快, 最高可达2万多帧, 48dB光强调制帧频可达80frame/s, 66dB光强调制帧频可达10frame/s。 3 高度动态成像场景检测系统的dz 3.1 dmd数据加载 为使高动态成像系统的动态范围扩增66dB, 将DMD的主要参数指标设为: (1) 分辨率1 024×768VGA; (2) 帧周期10frame/s; (3) 最小光强调制权值1/2 048。 成像系统的动态范围可以看作是可探测到的最大光强与最小光强之比。如图2所示, 若调光系统中的图像探测器为CCD, CCD的动态范围

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