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- 2023-11-22 发布于四川
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本发明提供一种半导体材料加工方法,涉及物料加工技术领域。该半导体材料加工方法应用半导体材料加工设备,设备包括上料机构、加工机构、下料机构、检测模块、控制模块、下料位和废料位。上料机构设置在加工机构的一侧。检测模块设置在加工机构处,检测模块与控制模块连接。控制模块与下料机构连接,下料机构设置在加工机构的一侧。检测模块用于检测加工机构加工后的物料的外观,控制模块用于判断加工后的物料是否合格,并控制下料机构将合格物料输送至下料位处,将不合格物料输送至废料位处。本发明缓解了现有技术中自动上料和下料的半导
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111584403 A
(43)申请公布日
2020.08.25
(21)申请号 20201
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