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电致变色氧化钨薄膜的制备、结构与性能研究的中期报告

一、研究背景

氧化钨是一种重要的过渡金属氧化物，在电化学、光催化、储能等方面具有广泛的应用，如在智能窗、电致变色器件、光催化水分解器件、锂离子电池等方面具有良好的应用前景。其中，电致变色氧化钨薄膜具有在外加电压下实现颜色的可逆、快速变化的特性，有着重要的应用前景。

二、研究目的

本研究旨在以氧化钨为基础材料，通过改变制备条件控制氧化钨的结构、形貌等性质，制备具有良好电致变色性能的氧化钨薄膜，并对其结构和性能进行研究。

三、研究方法

1.制备工艺

采用射频磁控溅射法在石英基片上制备氧化钨薄膜，改变溅射气压、沉积温度等制备条件，探究对薄膜结构、形貌和性能的影响。

2.结构与性能分析

采用X射线衍射仪（XRD）、椭偏仪（Ellipsometer）、扫描电子显微镜（SEM）等对制备的氧化钨薄膜进行结构和性能分析，同时采用电学测试系统对薄膜的电致变色性能进行测试。

四、阶段性成果

1.制备了氧化钨薄膜，并对溅射气压、沉积温度等制备条件进行了优化；

2.采用XRD对氧化钨薄膜的晶体结构进行了表征，发现了不同制备条件下结构的变化；

3.采用Ellipsometer测量了氧化钨薄膜的光学特性，分析了结构对光学性能的影响；

4.利用SEM观察了氧化钨薄膜的表面形貌，发现了不同制备条件下表面形貌的变化；

5.测试了氧化钨薄膜的电学性能，探究了制备条件对膜性能的影响，验证了薄膜的电致变色性质。

五、研究展望

在后续的研究中，还需进一步探究制备条件对氧化钨薄膜结构和性能的影响机制，并继续优化制备工艺，以得到更加优异的电致变色氧化钨薄膜。同时，还需研究氧化钨薄膜在不同环境条件下的稳定性以及对其应用进行评估和验证。