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有机硅/SiO2和聚硅氮烷涂层的制备及其抗原子氧与真空紫外侵蚀性能研究的开题报告

一、题目

有机硅/SiO2和聚硅氮烷涂层的制备及其抗原子氧与真空紫外侵蚀性能研究

二、背景和意义

随着航空航天技术的发展，航天器所面临的环境更加复杂和恶劣，如宇宙尘埃、宇宙辐射、宇宙高温等，这些因素不仅会对航天器表面造成损伤，同时也会对其工作性能产生不良影响。

因此，航天器表面涂层具有非常重要的作用，除了经典的防腐蚀和耐磨性能外，还需要具备抗原子氧和真空紫外辐射侵蚀能力，以保证航天器在极端环境下的正常运行。

目前，有机硅和聚硅氮烷涂层具有较好的抗原子氧和真空紫外辐射侵蚀能力，因而备受关注，但对其在航空航天领域应用的研究尚需深入探讨。

三、研究内容

1.利用有机硅和聚硅氮烷材料制备涂层；

2.采用SEM、AFM、XPS等表面分析技术对涂层进行表面形貌和化学成分分析；

3.研究涂层的抗原子氧和真空紫外辐射侵蚀性能，包括侵蚀速率和表面形貌等方面的变化；

4.对涂层的耐磨性能、防腐蚀性能和热稳定性进行评价。

四、研究方法

1.有机硅/SiO2和聚硅氮烷材料的制备及涂层制备方法的优化；

2.采用离子束刻蚀和真空紫外辐射等方式进行不同环境因素下的侵蚀性能测试；

3.采用SEM、AFM、XPS等表面分析技术对涂层的表面形貌和化学成分进行分析；

4.利用耐磨性测试机、盐雾腐蚀测试机等设备对涂层耐磨性和防腐蚀性能进行评价。

五、预期成果

1.成功制备出有机硅/SiO2和聚硅氮烷涂层；

2.对涂层的抗原子氧和真空紫外辐射侵蚀性能进行研究，得出相关数据；

3.评价涂层的耐磨性和防腐蚀性能，初步确定其在航空航天领域的应用前景；

4.发表2篇SCI论文。