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透光陶瓷;0.透明陶瓷的发展;AlN陶瓷是另一种经典的透明陶瓷,它最早是由美国在20世纪60年代研发成功,到了90年代其制备工艺和应用技术逐渐得到发展。氮化铝透明陶瓷体现出硬度较高、热导率较高、电导率较低、介电损耗较低、热膨胀系数较低、化学稳定性优良等诸多优秀性能。;钇铝石榴石激光透明陶瓷最初是以Al2O3、Y2O3、Nd2O3为基体制备而成,1974年,Greskovich等用老式陶瓷的制备工艺制备出了Nd:Y2O3陶瓷,其重要性能见表1。之后美国、日本、俄罗斯相继用不一样的措施制备了高透明度的钇铝石榴石激光透明陶瓷。因其具有较高的机械强度、良好的化学稳定性和电物理性能,被认为是有但愿的新一代固体激光材料。;(1)易制造，用提拉法制备单晶需要几周，不过制备陶瓷只需几天时间。并且陶瓷彻底烧结温度一般都大大低于它的熔融温度;

(2)费用了氏。单晶需要在昂贵的铱(Ir)或铂(Pt)甘锅里生长，而陶瓷棒不需要甘锅，并且生长速度较快。一般单晶的费用随它的尺寸增长而成倍增长，而陶瓷否则

(3)尺寸大。单晶的生长方式限制了晶体的尺寸，因而就限制了潜在的输出功率。目前最大的单晶尺寸为23cm长，但目前制得的多晶陶瓷的长度已到达单晶的2倍;

(4)大批量生产。陶瓷激光棒适合流水线作业，减少了时间和费用，单晶却否则。;;在本征吸取带,非金属材料对于光子的吸取有如下3种机理:电子极化;电子受激发吸取光子而跃迁禁带;电子跃迁进入位于禁带中的杂质或缺陷能而吸取光子。;对于共振吸取带,如图所示,可采用双原子振动模型来描述,质量分别为m1、m2,瞬时间距为r,谐振子的频率为:;介质透过率高下,也就是介质吸取的光波能量的多少,不仅与介质的电子的能带构造有关,还与光程有关,也就是与光穿过的介质厚度有关;对于陶瓷、玻璃等电介质材料，材料的吸取率或吸取系数在可见光范围内是比较低的。这是由于电介质材料的价电子所处的能带是填满的，它不能吸取光子而自由运动，而光子的能量局限性以使价电子跃迁到导带，因而在一定的波长范围内吸取系数很小。因此，陶瓷材料的可见光吸取损失相对来说是较小的，在影响透光率的原因中不占重要地位。;材料的反???系数和影响原因;1.2环境温度影响原因;伴随温度上升,折射率增大,透过率逐渐减少,因此折射率随温度的变化而影响到透过率。;对于透明材料的红外截止波段,伴随温度的升高而使原子能量增大,原子的振动频率增大,因而共振吸取截止频率增大,因此红外截止波长缩短,具有蓝移的趋势。;1.3制备影响原因;当原料的粒度很小,处在高度分散,烧结时微细颗粒可缩短气孔扩散的旅程,颗粒越细,气孔扩散到晶界的旅程就越短,轻易排除气孔和改善原料的烧结性能,使透明陶瓷构造均匀,透过率高。;1.3.2烧成制度;由于陶瓷属于光学不均匀体系，光会被物质内构造不均匀区域的散射中心散射。光散射系数由下列三个原因决定;1.4.1气孔率;气孔从三个方面影响陶瓷的透光性:气孔的数量、气孔的种类以及气孔的尺寸。首先，就气孔数量而言，许多文献都指出，总气孔率超过1%的氧化物陶瓷基本上是不透明的。RLcoble用克制二次重结晶的措施，把氧化铝陶瓷内的微气孔排除到0.1%如下，从而使1mm厚的陶瓷片对可见光的总透光率到达90%以上。CGreskovich等研究了氧化钇陶瓷中极微量气孔对陶瓷激光性能的影响。他们以89%Y2O3、10%ThO:和l%Nd203的构成，在2170℃的高温和氢气气氛下保温60~125h，烧结出的掺钦氧化忆陶瓷的平均晶粒尺寸为150一200pm，气孔减少到1x10-7的数量级，从而使这种陶瓷的激光性能靠近铅玻璃的水平。;1.光学透明性的影响原因;气孔的尺寸对透光性能的影响重要体目前如下几种方面;1.光学透明性的影响原因;当散射中心的大小d不小于光的波长时，则以反射折射为主，散射系数Sim;气孔率超过%1的氧化物陶瓷基本上是不透明的，因此，生产具有较高透光率陶瓷的一种重要条件，就是最大程度的减少增长光散射的残存气孔率，尤其是显微气孔率。陶瓷内的气孔由于具有不一样光学性质的相界，使光产生反射与折射，因而众多气孔使陶瓷不透明。在封闭气孔中还也许进入水蒸汽和氮气等。因此，晶体内气孔对于获得透明陶瓷是最危险的，从而应在任何工艺阶段防止气孔的产生。;近年来高透过率的透明陶瓷作为激光介质方面的应用成为全球的研究热点。然而这些陶瓷都局限于立方晶系，如YAG和Y2O3。对于非立方系的陶瓷，如Al2O3和AlN，其双折射是难以防止的，故其直线透过率较低（Al2O3~15%）。

我们的目的是根据光轴将晶粒进行排列，使光通过时两边的环境是一致的，这样多晶材料的透过率才能明显的提高。这种措施可以应用到单轴的