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****影响卤代烃消除反应的因素之一1、烃基结构的影响E1反应活性：叔卤烷仲卤烷伯卤烷E2反应活性：叔卤烷仲卤烷伯卤烷（碱进攻β-H，叔卤烷β-H较多，反应活性高）CH3CCH3CH2HXB**对于E1反应，是因为叔卤代烷产生的碳正离子最稳定因此其活性最高。对于E2反应，是由于叔卤代烷消除后更易生成烷基取代较多的烯烃。影响卤代烃消除反应的因素之一****结论：相同级数卤代烃，烃基支链越多对消除越有利CH3CH2BrCH3CH2CH2Br(CH3)2CHCH2Br消除产物0.9%8.9%60%取代产物98%91%40%影响卤代烃消除反应的因素之一****碱浓度0mL/L28%0.0534%2.0093%2、碱的强度影响无论E1还是E2，碱性增强对反应有利。影响卤代烃消除反应的因素之二****3、溶剂的影响极性溶剂对E1反应有利4、反应温度的影响由于反应过程中需要断裂C-H键，提高反应温度对消除反应有利影响卤代烃消除反应的因素之三****5、消除取向和立体化学消除反应取向通常依照Saytzeff规则，即消除含氢少的碳上的氢，生成支链多的烯烃。消除反应的立体化学影响卤代烃消除反应的因素之四****消除取向主要考虑生成烯烃的稳定性和反应的空间位阻考虑共轭体系稳定消除反应的立体化学影响卤代烃消除反应的因素之四****立体取向：E1历程中间体碳正离子，平面型，消除无立体选择性几乎等量消除反应的立体化学影响卤代烃消除反应的因素之四****消除反应的立体化学立体取向：E2是协同反应，卤原子和氢质子离去后，?和β碳的杂化形式由SP3转化为SP2，生成的两个p轨道必须是相互平行才能形成π键。由于重叠式构象存在较高的内能，并且空间位阻较大对反应不利。卤素和氢必须处于对位交叉式构象，E2反应主要按交叉式构象--反式消除方式进行。影响卤代烃消除反应的因素之四****下列构象是有利的：对位交叉式消除反应的立体化学影响卤代烃消除反应的因素之四
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