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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利说明书
(10)申请公布号CN102645693A
(43)申请公布日2012.08.22
(21)申请号CN201210118843.2
(22)申请日2012.04.20
(71)申请人深圳市华星光电技术有限公司
地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
(72)发明人陈孝贤
(74)专利代理机构深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人胡海国
(51)Int.CI
G02B5/20
G02F1/1335
G03F7/00
G03F7/20
权利要求说明书说明书幅图
(54)发明名称
彩色滤光片及其制作方法
(57)摘要
本发明公开了一种彩色滤光片及其
制作方法，该方法包括：在基板上形成黑
矩阵；在所述黑矩阵之间填充色素材料，
并形成色阻单元，所述色素材料为感光材
料；对所述色阻单元进行曝光，所述色组
单元各部分所受到的曝光能量不同；对所
述色阻单元进行显影形成色阻，所述色阻
与黑矩阵的交接区比所述色阻单元与黑矩
阵的交接区平坦，因此覆盖在交接区的透
明电极层其表面也比较平坦，使液晶分子
在透明导电层上的排列一致，从而提高了
该彩色滤光片的对比值。
法律状态
法律状态公告日法律状态信息法律状态
未缴年费专利权终止IPC(主分
类):G02B5/20专利
2023-03-28号:ZL2012101188432申请专利权的终止
日权公告
日
权利要求说明书
1.一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括步骤：
在基板上形成黑矩阵；
在所述黑矩阵之间填充色素材料形成色阻单元，所述色素材料为
感光材料；
对所述色阻单元进行曝光，所述色组单元各部分接收到的光强度
与其厚度成反比；
对所述色阻单元进行显影形成色阻。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，
所述对所述色阻单元进行曝光步骤具体为：为利用一光掩膜对所述色
阻单元进行曝光，该光掩膜具有非透光区、半透光区以及透光区，经
过该光掩膜的紫外光的强度与所述色阻单元的厚度成反比。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，
所述光掩膜对应所述色阻单元厚度最小处的部分为透光区，紫外光可
完全穿透光掩膜后照射到色阻单元的该位置；光掩膜在所述色阻单元
其他部分对应位置的部分为半透光区，紫外光可部分穿过该光
掩膜后照射到色阻单元上。
4.如权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述对
所述色阻单元进行显影形成色阻具体为：由显影液对所述色阻
单元进行显影，经过显影后，所述色阻单元的各部分厚度的减小程度
与其接收到的紫外光的强度成反比。
5.如权利要求4所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述色
阻单元厚度最小的部分经过显影后，其厚度没有减小。
6.如权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，
所述色素材料含有光起始剂
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