SUVA工艺改善色偏研究.pdfVIP

第44卷第2期光电子技术Vol.44No.2

2024年6月OPTOELECTRONICTECHNOLOGYJun.2024

DOI：10.12450/j.gdzjs.202402015

研究与试制

SUVA工艺改善色偏研究

*

张勇，李林，任驹，李凡，彭林，吴潘强

（成都京东方显示科技有限公司，成都610299）

摘要：为优化SUVA3工艺中左右视角色偏（CR）较UV²A工艺差的问题，从工艺、设计

（80/20）

等方向，进行了组合曝光（PBS+WGP模式）、ITO狭缝角度、偏光片角度（WGP）等条件的探究。

结果表明：组合曝光（PBS+WGP模式）、ITO角度、WGP角度均可优化色偏，但从色偏收益和量产

性角度考虑，ITOSlit角度+WGP角度调整更优，其最优条件为：WGP角度为f°（极限角度）+

ITO狭缝角度为I°，可将SUVA3工艺色偏优化至UV²A工艺水准，CR可达到35.6%。

（80/20）

关键词：方位角；氧化铟锡薄膜狭缝；金属线栅偏振器；色偏

中图分类号:TN27文献标志码:A文章编号:1005⁃488X(2024)02⁃0168⁃05

ImprovementofColorDeviationBasedonSUVAProcess

ZHANGYong，LILin，RENJu，LIFan，PENGLin，WUPanqiang

(ChengduBOEDisplaySci⁃techCo.,Ltd.，Chengdu610299，CHN)

Abstract：InordertoimprovethecolordeviationoftheSUVA3，bywhichtheleftandrightvisu⁃

alrolebias（CR（80/20））wasworsethanthatofUV²Aprocess，thecombinedenergyexposure（PBS+

WGPmode），ITOSlitangleandWGPanglewerestudiedfromtheprocess，designandotheras⁃

pects.Theexperimentalresultsshowedthatt