曲面硅电极五轴精密磨削工艺研究.pdf

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2024年4月机床与液压Apr.2024

第52卷第7期MACHINETOOL&HYDRAULICSVol52No7

DOI:10.3969/jissn10013881202407014

文献引用:卢震,程俊兰.曲面硅电极五轴精密磨削工艺研究[J].机床与液压,2024,52(7):9397.

Citeas:LUZhen,CHENGJunlan.Researchonfiveaxisprecisiongrindingtechnologyforcurvedsiliconelectrodes[J].MachineTool&

Hydraulics,2024,52(7):9397.

曲面硅电极五轴精密磨削工艺研究

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卢震,程俊兰

(1北京精雕科技集团有限公司,北京102308;2北华航天工业学院,河北廊坊065000)

摘要:近两年出现了新型刻蚀技术,将半导体刻蚀用硅电极设计成曲面结构。而曲面硅电极的精度及粗糙度要求非常

高,其生产都是在国外进行,具体工艺未知。研究出一套曲面硅电极高效、精密磨削方法。通过分析曲面硅电极零件,提

出采用五轴磨削技术进行加工的工艺方案,使用五轴编程软件进行编程,采用具备机内自动化技术和数字仿真技术的五轴

磨削中心,对曲面硅电极的磨削加工策略进行验证。结果表明:此项加工技术可提高加工效率和产品良率,并减少后续的

研磨抛光时间,降低了生产成本。

关键词:曲面硅电极;精密磨削;机内自动化;数字仿真;工艺研究

中图分类号:TH162;TG659

ResearchonFiveAxisPrecisionGrindingTechnologyforCurvedSiliconElectrodes

12

LUZhen,CHENGJunlan

(1BeijingJingdiaoGroup,Beijing102308,China;2NorthChinaInstituteofAerospaceEngineering,

LangfangHebei065000,China)

Abstract:Inrecentyears,newetchingtechnologiesemerged,curvestructuresaredesignedonsiliconelectrodesforsemiconductor

etching.Theprecisionandroughnessrequirementsofcurvedsiliconelectrodesareveryhigh,theywereproducedabroadpreviously,and

thespecificprocessisunknown.Anefficientandprecisegrindingmethodwasdevelopedforcurvedsiliconelectrodes.Throughtheanaly⁃

sisofcurvedsiliconelectrodeparts,aprocessschemeofusingfiveaxisgrindingtechnologyformachiningw

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