一种具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层及制备方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN104087898A

(43)申请公布日2014.10.08

(21)申请号CN201410341995.8

(22)申请日2014.07.18

(71)申请人上海理工大学

地址200093上海市杨浦区军工路516号

(72)发明人李伟薛增辉刘平马凤仓刘新宽陈小红何代华

(74)专利代理机构上海申汇专利代理有限公司

代理人吴宝根

(51)Int.CI

C23C14/06

C23C14/35

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种具有超高硬度、低摩擦系数的

TiSiCN纳米复合涂层及制备方法

(57)摘要

本发明公开一种具有超高硬度、低

摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层及制备方

法。所述具有超高硬度、低摩擦系数的

TiSiCN纳米复合涂层是采用多靶磁控溅射

仪，由TiSiC复合靶材在依次经抛光、超

声波清洗、离子清洗后的基体上进行磁控

溅射反应沉积而形成的。所述TiSiC复合

靶材中，按原子比计算，Ti为84%，Si和

C的总原子量为16%。该TiSiCN纳米复合

涂层的硬度为36.1-46.0GPa，与GCr15钢

球的摩擦系数为0.30-0.38，可用在干式、

高速切削加工刀具以及在摩擦磨损条件服

役的部件表面，从而提高刀具及部件表面

性能和使用寿命。其制备方法具有工艺简

单、沉积速度快、成本低、结合强度高等

优点。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层，其特征在于所述具有

超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层是采用多靶磁控溅射仪，由TiSiC

复合靶材在依次经抛光、超声波清洗、离子清洗后的基体上进行磁控溅射反应沉积

而形成的；

所述的基体为金属、硬质合金、陶瓷或单晶Si。

2.如权利要求1所述的一种具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层，

其特征在于所述的磁控溅射反应沉积，其过程的工艺控制如下：

采用TiSiC复合靶材中，按原子比计算，其中Ti为84%，Si和C的总原子量为

16%，TiSiC复合靶材的直径为75mm；

Ar气流量：30-50sccm，Nsub2/sub气流量：4-10sccm；

射频溅射功率300W，时间2h；

靶基距3-7cm；

总气压范围0.2-0.4Pa；

基体温度为300℃。

3.如权利要求2所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层，其特

征在于所述的TiSiC复合靶材中，按原子比计算，其中Si：C为12%：4%、8%：

8%、4%:12%、2%：14%或0%：16%。

4.如权利要求2所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层，其特

征在于所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层厚度为2.5-4.0μm。

5.如权利要求2所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层，其特

征在于所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层中的晶化界面相

SiN与其包裹的纳米晶TiN呈共格外延生长，涂层出现连续、结晶度良好的柱状晶。

6.如权利要求1、2、3或4所述的具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合

涂层的制备方法，其特征在于具体包括如下步骤：

（1）、清洗基体

首先将经抛光处理后的基体送入超声波清洗机，依次在分析纯的无水酒精和丙酮中

利用15～30kHz超声波进行清洗5～10min；

然后进行离子清洗；

所述的离子清洗即将基体装进真空室，抽真空到6×10sup-4/supPa后通入Ar

气，维持真空度在