半导体制造环境控制系统（ECS）系列：洁净度控制系统_（2）.洁净室设计与布局.docxVIP

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洁净室设计与布局

在半导体制造过程中，洁净室的设计与布局是确保产品质量和生产效率的关键环节。洁净室的环境控制要求非常高，必须严格控制空气中颗粒物的浓度、温度、湿度以及气流速度等参数。本节将详细介绍洁净室的设计原则、布局考虑因素以及如何通过环境控制系统（ECS）实现这些控制目标。

洁净室设计原则

1.空气流动控制

洁净室内的空气流动必须严格控制，以防止颗粒物的沉积和交叉污染。常见的空气流动方式包括层流（LaminarFlow）和乱流（TurbulentFlow）。

层流：空气以恒定的速度和方向流动，通常用于要求极高的洁净室区域。层流系统可以有效去除空

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