半导体制造环境控制系统（ECS）系列：洁净度控制系统_（9）.洁净室空气流动模式.docxVIP

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洁净室空气流动模式

在半导体制造过程中，洁净室的空气流动模式是确保生产环境达到所需洁净度的关键因素之一。空气流动模式的设计不仅影响到颗粒物的去除效率，还会影响到温度、湿度的控制，以及生产过程中的静电控制。本节将详细介绍几种常见的洁净室空气流动模式，包括单向流（UnidirectionalFlow）、非单向流（Non-UnidirectionalFlow）和混合流（MixedFlow），并探讨它们在半导体制造中的应用和优缺点。

单向流（UnidirectionalFlow）

原理

单向流，也称为层流（LaminarFlow），是一种空气流动模式，