半导体制造环境控制系统（ECS）系列：洁净度控制系统_（5）.气体净化技术.docxVIP

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气体净化技术

气体净化的重要性

在半导体制造过程中，气体的纯净度对产品的质量和产量有着极其重要的影响。微小的杂质或污染物可能会导致器件的性能下降、良率降低甚至完全失效。因此，气体净化技术是半导体制造环境控制系统（ECS）中不可或缺的一部分。本节将详细介绍气体净化的基本原理、常用技术和设备，以及如何通过软件控制系统来实现高效的气体净化管理。

气体净化的基本原理

气体净化的基本原理是通过物理、化学或机械方法去除气体中的杂质。这些杂质包括颗粒物、化学污染物、水分、氧气等。常见的气体净化技术包括过滤、吸附、化学反应和冷凝等。每种技术都有其特定的应用场景和去除效果