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电镀铜工艺-专业介绍;电镀铜工艺;电镀铜工艺的功能;电镀铜工艺的功能;;;电镀铜的原理;;;;;;振动与摆动;;;;磷銅陽极的特色;?圆形钛篮铜阳极表面积估算方法
—?dlf/2
?=3.14d=钛篮直径l=钛篮长度f=系数
?方形钛篮铜阳极表面积估算方法
—1.33lwf
l=钛篮长度w=钛篮宽度f=系数
?f与铜球直径有关:
直径=12mmf=2.2
直径=15mmf=2.0直径=25mmf=1.7
直径=28mmf=1.6直径=38mmf=1.2;磷铜阳极材料要求规格;;阳极袋与阳极膜;添加剂对电镀铜工艺的影响;电镀层的光亮度
载体(c)/光亮剂(b)的机理;电镀的整平性能
光亮剂(b),载体(c),整平剂(l)的机理;?电镀铜溶液
电镀铜溶液的电导率
硫酸的浓度
温度
硫酸铜浓度
添加剂
板厚度(L),孔径(d)
?搅拌:提高电流密度
?表面分布(均匀性)也受分散能力影响.;电镀铜层的物理特性;电镀铜溶液的控制;电镀铜溶液的控制;;电镀铜溶液的控制;?高電流部有针点,潤濕劑(表面活性劑)不足
?工作区(3-4cm)和高電流部发雾,光澤不足
高電流部燒焦的寬度(小于1.5cm)較大,金屬成分不足
高电流密度区呈条纹状沉积,整个试片光亮度降低,盐酸不足
;电镀铜溶液的控制;电镀铜溶液的控制;;PCB电镀铜工艺过程;;?鍍銅層的作用
—作爲化學鍍銅的加厚鍍層和作爲圖形電鍍的底鍍層。
—化學鍍銅層一般0.5μm-2μm,必須經過電鍍銅後才可進行
下一步加工,加厚銅是全板電鍍,厚度一般在5-8μm。
;全板电镀工艺过程操作条件
;全板电镀工艺过程操作条件;全板电镀工艺过程操作条件;电镀铜镀层厚度估算方法;PCB电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程;图形电镀铜工艺过程操作条件;图形电镀铜工艺过程操作条件
;图形电镀铜工艺过程操作条件
;演讲完毕,谢谢听讲!
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