制造工艺过程与方法.pptVIP

拉出聚合物膜己二胺-NaOH水溶液己二酰氯的CHCl3溶液界面聚合膜牵引己二酰氯与己二胺之界面缩聚金属盐溶液添加沉淀剂不溶性盐或氢氧化物溶剂蒸发加热分解氧化物粉末。所得氧化物粉末的性质（如：颗粒的大小，晶型，等）依赖于：加热温度的高低、加热时间的长短、气氛。其过程如下：液相沉淀法液相沉淀法主要用于制备氧化物。直接沉淀法共沉淀法均匀沉淀法水解法胶体化学法特殊沉淀法液相沉淀法主要包括：共沉淀法1共沉淀法定义：含有多种可溶性阳离子的盐溶液，经沉淀反应后，得到成分均一的混合沉淀物。可制备含有两种金属元素的复合氧化物超细粉末。例：BaCl2TiCl4混合溶液+草酸BaTi(C2O4)·4H2O过虑沉淀加热分解BaTiO3超细粉。此法广泛用于合成：钙钛矿型（ABO3）、尖晶石型(AB2O4)、镧锆钛酸铅(PLZT)、敏感材料铁氧体（铁磁性材料）、荧光材料等。化学气相沉积

ChemicalVaporDeposition(CVD)金刚石薄膜优异的性能高硬度高弹性模量低摩擦系数高热导高绝缘宽能隙和高的载流子迁移率高的光学透过率良好的化学稳定性化学气相沉积

ChemicalVaporDeposition(CVD)纳米金刚石薄膜硬度和弹性模量与天然金刚石单晶接近，且表面极其光滑平整，光学透过率高，摩擦系数极低（大大低于普通的微米晶粒金刚石膜）具有高的韧性和场发射电压，预计在工具涂层、光学涂层、微机电系统、高性能大屏幕显示、半导体功率器件的金刚石封装等一系列高技术应用领域会有十分光明的市场前景。化学气相沉积

ChemicalVaporDeposition(CVD)金刚石膜的主要应用实例刀具CVD法的特点：1)可以在远比材料熔点低的温度下进行材料合成；2）对于由两个以上元素构成的材料，可以调整这些材料的组分；3）可以得到特定的晶体结构，还可以使其沿特定的结晶方向排列；4）可以控制材料的形态（粉末状、纤维状、块状）；5）不需要烧结助剂，得到高纯度高密度的材料；6）结构控制一般能从微米级的亚微米级，在某些条件下能达到0.1nm级的水平；7）能够制成复杂形状的制品；8）能够对复杂形状的底材进行涂覆；9）能够容易地进行多层涂覆；10)能够进行亚稳态物质和新材料的合成。0102传热性好温度均匀气相聚合省去了溶剂的精制与回收流化床气相聚合是常见的气相聚合。具有下面两个特点：气相聚合流化床气相聚合设备关键设备包括：流化床器反应器循环气体压缩机循环气体冷却器调温水换热器引发剂加料器产品出料罐和产品吹送罐。流化床是整个聚合过程的核心设备030201气体和固体之间的相互作用，即随着流体速度的变化（低高）固体颗粒由相互支撑转变为气流悬浮，反应器内的物料具有流体的特征。流化床内的气固混合物分为两相：乳化相（高温相）和气泡相（低温相）。反应在此发生。流化床反应的基本原理:液相法按材料制备时反应状态、反应温度不同可分为：熔融法，溶液法，界面法，液相沉积法，溶胶－凝胶法，水热法，喷雾法等。12溶胶凝胶法01界面法02溶液法03液相沉淀法04喷雾法05水热法06熔融法液相法07加热温度高低高温熔融法低温熔融法熔融法玻璃的熔制高炉的炼铁本体聚合熔融缩聚熔融法化学反应：固相反应、盐类的分解、水合物的分解、结合水的排出等。指利用熔室将玻璃配合料加热熔化，制成适合成型使用的玻璃液的过程。它包括一系列物理变化：配合料的加热、吸附水分的蒸发排出、某些单独组分的熔融、某些组分的多晶转变、个别组分的挥发等。目的：是获得均匀，纯净，透明，无气泡并适合成型的玻璃液。物理反应：低共熔物的生成、组分之间的互溶。玻璃的熔制过程A.高温熔融法CaO（石灰石方解石白云石等）贰SiO2（砂岩）壹Na2O（纯碱芒硝）。叁生产玻璃的主要原料：酸盐形成阶段（800-1000℃）各种原料在高温下相互反应，生成烧结状态的硅酸盐及其熔融物，存在大量的石英砂粒，气泡和条纹。所发生的物理的、化学的、物理化学的变化是在固体状态下进行的。玻璃形成阶段（1000-1250℃）低共熔混合物开始熔化，随间温度升高，硅酸盐和剩余石英砂粒互溶，直到石英砂颗粒完全熔化。形成不够均匀的透明玻璃液——仍含有大量气泡，条纹。熔融过程可分为5个阶段粘度进一步降低，大量气泡逸出（去除可见气泡）。但还有条纹，液体温度