《薄膜物理与技术》绪论.pptx

薄膜物理与技术;1.Introductionofthislecture;主讲：

林媛、陶伯万同志

办公室：三系楼（227）/（125）

电话 电子邮件：taobw@uestc.edu.cn

办公时间：大多数上班时间及晚上;课程情况介绍;课程情况介绍;《薄膜物理与技术》杨邦朝，电子科大出版社，1994;第一章真空技术基础

第二章物理气相沉积－－蒸发

第三章物理气相沉积－－溅射

第四章化学气相沉积

第五章化学溶液沉积

第六章薄膜生长过程和结构

第七章薄膜材料的表征方法;考试：

考试形式：闭卷

考试内容：所有讲述内容

成绩构成：

平时成绩：30%（习题，出勤，实验报告，资料阅读）

考试成绩：70%

;课件：

电子科技大学－互动教学空间－网络学堂－课程查找－输入：薄膜物理与技术（课程名）、陶伯万（教师名）－授课教案（下载密码：200815）

U盘拷贝;2.Whatis

thinfilm？;一、薄膜的定义;定义1的特点：;;定义3：;薄膜(thinfilm)：由物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、溶液镀膜等薄膜技术制备的薄层。;;三、基板的特点：;Silicon-On-SapphireWafers;;3.Whydoweneedthinfilms？;Theworldhaschanged;Devicesbecomemuchmorecomplexly!;;Changesbringschallenges:

Safer,easier,morecomfortable,

moreeconomy,morehappiness.;Challengemeansopportunity;ImplantComponent;Howcanwemakedevicesmore

powerful,lighter,smaller,cheaper?;4.Howcanwemakethinfilms？;;物理气相沉积技术(PVD)是利用热蒸发、离子溅射或辉光放电等物理过程，在基体表面沉积所需薄膜的技术

化学气相沉积技术(CVD)是利用化学反应，将气相中的物质转移到基体表面形成所需薄膜的技术

物理与化学相结合，以技术方法区分。氧化物、氮化物的制备。;Evaperation;Sputtering;PLD;5.Theapplicationofthinfilms;薄膜材料的分类和应用;传感器：压力，温度，湿度，加速度，气体

光电子器件：薄膜电致发光器件，代替CRT 作显示器

信息及计算机：磁性薄膜，光盘，磁光盘。

光学：反射膜，增透膜

机械工业：耐磨涂层，硬质镀层，固体润滑膜，耐腐蚀装饰、包装，镀金，锡箔纸，塑料薄膜上镀铝

太阳能电池，超导薄???，铁电薄膜，金刚石薄膜;集成电路：;CCD制作;FabricationofThinFilmSensors;磁性薄膜;Cross-sectionofathin-filmmedia

forGMRhead

;crystallinesolarcell;YBCO/CeO2/YSZ/CeO2/Ni;YBCO超导样品;YBCO薄膜形貌;作业