1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 化学工业

La,Y,Pr掺杂纳米氧化抛光材料的制备与性能.pdf

La,Y,Pr掺杂纳米氧化抛光材料的制备与性能.pdf

    1. 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
    2. 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    3. 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    查看更多

    摘要

    摘要

    化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）是目前唯一兼顾全

    局平坦化和纳米级表面精度的技术，广泛用于集成电路、液晶面板、光学镜头

    等领域。CeO2是应用最好的抛光磨粒，具有抛光速率高、抛光后表面质量好、

    去除选择性高等诸多优点。随着表面精度要求的提升，对CeO磨粒提出了更高

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    136****6583 + 关注
    实名认证
    内容提供者

    该用户很懒，什么也没介绍

    咨询Ta 进入空间
    版权声明书
    用户编号：7043055023000005

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >