网站大量收购独家精品文档,联系QQ:2885784924

微电子概论(第3版)课件2-4-5多发射极条版图.pptx

微电子概论(第3版)课件2-4-5多发射极条版图.pptx

  1. 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

《微电子概论(第3版)IntroductiontoMicroelectronics郝跃贾新章史江一》SecondEdition

1.基区串联电阻2.4.5BJT功率特性2.基区横向压降与发射极电流集边效应3.功率BJT的交叉梳状结构版图设计目录4.外延结构晶体管

3.功率BJT的交叉梳状版图设计(1)(功率)晶体管发射区图形选择由于存在电流集边效应,为了满足IE较大的要求,同时防止出现大注入效应,发射区边缘长度应足够长为了保证频率特性,AE应尽量小因此发射区图形的周长面积比应尽量大。长条形发射区图形是较好的选择,广泛由于功率BJT版图设计中。

3.功率BJT的交叉梳状版图设计(2)发射区条状图形尺寸的确定考虑①条状发射区AE尽量小②为了保证较大的工作电流IE,同时防止出现大注入效应,应保证发射极条有足够的长度③应考虑单根发射极条的条长是否受到一定条件的制约。→要求条宽尽量窄→取决于光刻工艺水平→需要确定单位条长允许的电流I0

3.功率BJT的交叉梳状版图设计(3)单位发射区条长允许的最大电流(工程实用数据)①线性放大应用:I0≤0.012~0.04mA/μm②功率放大应用:I0≤0.04~0.08mA/μm(f400MHz)I0≤0.08~0.16mA/μm(f400MHz)③开关应用:I0≤0.16~0.4mA/μm。说明I0值越小,越不容易出现大注入,晶体管特性越好。但是对一定的IE要求,需要的发射极条越长,芯片面积越大。

3.功率BJT的交叉梳状版图设计(4)交叉梳状结构版图设计根据工作电流IE要求,选择合适的I0,则发射极总条长LE为:由于发射极条长方向也会产生压降,使得单根发射极条最长条长受到限制可以采用多根较短发射极条并联的方式。为了减小基区串联电阻RB,每根发射极条两侧均应该有基极条如果采用n根发射极条并联,则一共有(n+1)根基极条。然后通过金属层将n根发射极条并联,将(n+1)根基极条并联。

3.功率BJT的交叉梳状版图设计(4)交叉梳状结构版图设计三根发射极条的版图实例并联在一起的三根发射极条以及并联在一起的四根基极条形似两把交叉的梳子,相互穿插。因此称为交叉梳状结构版图。

您可能关注的文档

文档评论(0)

balala11 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档