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可剥离去污涂料制备及性能研究

摘要

本研究旨在开发一种高效的可剥离去污涂料，通过对多种原材料的筛选和配方优化，制备出具有良好剥离性能和去污能力的涂料。利用傅立叶变换红外光谱仪（FT-IR）、核磁共振波谱仪（NMR）和凝胶渗透色谱仪（GPC）对涂料成分进行表征，并测试其力学性能、双键转化率、可剥离性等。结果表明，所制备的涂料在多种基材上表现出优异的性能，为表面污染治理提供了一种新的有效解决方案。

关键词

可剥离去污涂料；制备；性能研究；剥离性能；去污能力

一、引言

可剥离涂料技术作为一种重要的表面处理手段，在多个领域得到了广泛应用。特别是在核设备退役、电子器件保护以及建筑表面防护等方面，可剥离去污涂料的需求日益增长。这种涂料不仅能够在使用过程中保护基材表面免受污染和损伤，而且在完成保护任务后，能够方便地从基材表面剥离，不留下任何残留物，从而避免对基材后续使用造成影响。

在核设备退役过程中，如何有效去除放射性核素污染是一个关键问题。可剥离去污涂料通过在受污染表面形成包覆膜，将污染物固定在膜内，随后剥离膜体实现去污，具有操作简便、二次废物易处置等优点。在电子器件制造和运输过程中，可剥离涂料可以保护器件免受灰尘、油污和刮伤等损害，确保器件的性能和可靠性。在建筑领域，可剥离去污涂料能够保护建筑物表面免受环境污染和化学侵蚀，延长建筑物的使用寿命。

尽管可剥离去污涂料具有诸多优势，但目前的研究仍存在一些不足之处。部分涂料在剥离性能和去污能力之间难以达到平衡，一些涂料虽然剥离性能良好，但去污效果不佳，而另一些涂料在去污方面表现出色，但剥离过程中容易对基材造成损伤。此外，现有涂料的制备工艺和原材料选择也有待进一步优化，以提高涂料的综合性能和降低生产成本。

基于以上背景，本研究致力于开发一种新型的可剥离去污涂料，通过对原材料的精心筛选和配方的优化设计，制备出具有卓越剥离性能和高效去污能力的涂料，并对其性能进行系统研究，为可剥离去污涂料的实际应用提供坚实的理论支持和技术保障。

二、实验部分

2.1实验材料

本研究选用端羟基氢化聚丁二烯（P2000）作为主要的柔性链段原料，其具有良好的柔韧性和耐候性，能够为涂料提供必要的弹性和耐久性。4,4-二环己基甲烷二异氰酸酯（HMDI）作为硬段原料，可与P2000反应形成具有一定强度和硬度的聚氨酯结构。丙烯酸羟乙酯（HEA）和季戊四醇三丙烯酸酯（PETA）用于引入可光固化的双键，使涂料能够在光引发剂的作用下迅速固化成膜。

活性稀释剂丙烯酸异冰片酯（IBOA）被用于调节涂料的粘度，改善涂料的施工性能，同时对涂料的机械性能也有一定的调控作用。光引发剂1173、184和TPO被用于引发涂料的光固化反应，不同的光引发剂具有不同的活性和吸收光谱，对涂料的固化速率和双键转化率有显著影响。

此外，实验中还使用了二月桂酸二丁基锡（DBTDL）作为催化剂，以加速聚合反应的进行，确保反应能够在合理的时间内完成。在表征和测试过程中，使用了全反射红外光谱仪、核磁共振波谱仪、凝胶渗透色谱仪、实时红外光谱仪、MTS公司E43.104型万能材料试验机等多种仪器设备，以对涂料的结构、性能进行全面准确的分析。

2.2聚氨酯丙烯酸酯（PUA）的合成

以P2000-HMDI-HEA的合成为例，在装有搅拌器、温度计和回流冷凝管的三口烧瓶中，称取80gP2000（0.04mol）和20.96gHMDI（0.08mol），并缓慢滴入占P2000和HMDI总质量1%的DBTDL。将反应体系升温至80℃，搅拌反应2h，此时体系中发生P2000的羟基与HMDI的异氰酸根反应，生成含有异氰酸根的中间产物（P2000-HMDI）。通过化学滴定法测定体系中—NCO含量，以监控反应进程。

待—NCO含量达到预期值后，加入与—NCO等物质的量的HEA，继续反应2-4h。期间使用红外光谱仪实时监测反应体系，当在2260-2280cm-1处无—NCO的吸收峰时，表明反应结束，成功制得P2000-HMDI-HEA。

重复上述操作，仅将HEA替换为PETA，即可制得P2000-HMDI-PETA。在合成过程中，严格控制反应温度、时间和原料比例，以确保产物的结构和性能符合预期。通过对反应条件的优化，提高产物的纯度和产率，为后续涂料的制备提供高质量的原料。

2.3光固化可剥离涂料的制备

在制得的树脂P2000-HMDI-HEA或P2000-HMDI-PETA中，加入占树脂和稀释剂总质量30%的活性稀释剂IBOA。然后，分别向其中加入光引发剂1173、184或TPO，在磁力搅拌器上充分搅拌均匀，使光引发剂和活性稀释剂均匀分散在树脂体系中，从而制得